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上海集(ji)(ji)成(cheng)(cheng)電路研發中心(xin)有(you)限公司(si)（ICRD）成(cheng)(cheng)立(li)于2002年，是國家支(zhi)持組建(jian)、產學研合作的(de)集(ji)(ji)成(cheng)(cheng)電路研發中心(xin)。ICRD由中國集(ji)(ji)成(cheng)(cheng)電路相關企(qi)業集(ji)(ji)團和高校聯合投資組建(jian)而(er)成(cheng)(cheng)，是一個獨立(li)的(de)面向全行業集(ji)(ji)成(cheng)(cheng)電路企(qi)業、大(da)學及研究所開放的(de)公共研發機構。

上(shang)海集(ji)成電(dian)(dian)(dian)路研發中心聚焦集(ji)成電(dian)(dian)(dian)路主流(liu)技術(shu)路線(xian)(xian)，致力于解(jie)決(jue)重大(da)共(gong)(gong)性(xing)技術(shu)的(de)研發及(ji)服務(wu)支撐問題，并為(wei)自主可控(kong)產(chan)業(ye)(ye)鏈建設(she)提(ti)(ti)(ti)供(gong)公(gong)共(gong)(gong)的(de)裝備和(he)(he)材料驗證(zheng)平臺(tai)。ICRD的(de)主要(yao)功(gong)能(neng)包括：為(wei)集(ji)成電(dian)(dian)(dian)路企業(ye)(ye)和(he)(he)研發單位提(ti)(ti)(ti)供(gong)前(qian)端器(qi)件(jian)及(ji)工(gong)藝技術(shu)的(de)前(qian)期研發和(he)(he)產(chan)品級驗證(zheng)；為(wei)集(ji)成電(dian)(dian)(dian)路裝備和(he)(he)材料提(ti)(ti)(ti)供(gong)研制到上(shang)線(xian)(xian)的(de)驗證(zheng)和(he)(he)工(gong)藝配套；為(wei)集(ji)成電(dian)(dian)(dian)路生產(chan)線(xian)(xian)升(sheng)級提(ti)(ti)(ti)供(gong)知識產(chan)權和(he)(he)技術(shu)轉(zhuan)移；為(wei)國內設(she)計企業(ye)(ye)研制芯(xin)片提(ti)(ti)(ti)供(gong)特色工(gong)藝和(he)(he)共(gong)(gong)享IP核服務(wu)；為(wei)企業(ye)(ye)及(ji)高(gao)校提(ti)(ti)(ti)供(gong)培(pei)養集(ji)成電(dian)(dian)(dian)路技術(shu)人(ren)才(cai)和(he)(he)高(gao)技能(neng)人(ren)才(cai)的(de)實訓基(ji)地。

上海集成電路研(yan)發(fa)(fa)中心位于上海市(shi)張江高科技(ji)園(yuan)區，地(di)理(li)位置毗鄰華力微(wei)電子(zi)(zi)和(he)中芯(xin)國際。ICRD建(jian)有(you)12英(ying)寸開放式(shi)集成電路工藝研(yan)發(fa)(fa)和(he)裝備材料試驗(yan)平臺，凈化面積超過3000平方米(mi)，研(yan)發(fa)(fa)環境及管理(li)系統(tong)和(he)大(da)生(sheng)產線(xian)匹配，可(ke)(ke)實(shi)現(xian)硅片(pian)無沾污進出和(he)工藝流程無縫銜接，加快(kuai)了技(ji)術(shu)研(yan)發(fa)(fa)和(he)驗(yan)證速度。ICRD擁有(you)浸沒式(shi)193nm光刻(ke)機、硅刻(ke)蝕機、原子(zi)(zi)層薄膜生(sheng)長（ALD）、高能離(li)子(zi)(zi)注入(ru)機以(yi)(yi)及全(quan)套銅(tong)互(hu)連和(he)Low-K等(deng)工藝設備，工藝研(yan)發(fa)(fa)能力可(ke)(ke)達(da)14納米(mi)以(yi)(yi)下。

上海集(ji)成電路研(yan)(yan)發中(zhong)心擁有一(yi)批來自國(guo)(guo)際研(yan)(yan)發機構(gou)和跨國(guo)(guo)公司的研(yan)(yan)究人員，并通過國(guo)(guo)內外產業合作持(chi)續(xu)培(pei)養和鍛(duan)煉了(le)一(yi)支擁有自主(zhu)工藝技(ji)術提(ti)升能力(li)的研(yan)(yan)發隊(dui)伍，為中(zhong)國(guo)(guo)集(ji)成電路產業的自主(zhu)可控持(chi)續(xu)發展(zhan)提(ti)供了(le)中(zhong)堅力(li)量。ICRD掌握(wo)了多個技(ji)術(shu)代的工(gong)(gong)藝(yi)技(ji)術(shu)和(he)知識(shi)產(chan)(chan)權，為中國集成電(dian)路生(sheng)產(chan)(chan)線的建設提供(gong)了多套(tao)技(ji)術(shu)轉移和(he)服務；通(tong)過設立產(chan)(chan)業(ye)界共性技(ji)術(shu)研(yan)發(fa)(fa)(fa)項目，進行FinFET器件及工(gong)(gong)藝(yi)、FDSOI關鍵工(gong)(gong)藝(yi)、5nm以(yi)下納(na)米線晶(jing)體管等(deng)新器件和(he)工(gong)(gong)藝(yi)技(ji)術(shu)的聯合(he)研(yan)發(fa)(fa)(fa)；開展產(chan)(chan)學研(yan)合(he)作，研(yan)發(fa)(fa)(fa)STT-MRAM、晶(jing)體管級(ji)3D堆疊、量(liang)子(zi)點傳感器、類(lei)神(shen)經元晶(jing)體管等(deng)前(qian)沿技(ji)術(shu)和(he)產(chan)(chan)品；通(tong)過以(yi)精(jing)湛工(gong)(gong)藝(yi)帶動裝(zhuang)備和(he)材料研(yan)發(fa)(fa)(fa)評價的方式，為國產(chan)(chan)光(guang)刻機(ji)、刻蝕機(ji)、銅(tong)互連、光(guang)刻膠(jiao)、大(da)硅片(pian)等(deng)裝(zhuang)備和(he)材料提供(gong)驗(yan)證和(he)工(gong)(gong)藝(yi)配套(tao)，推動供(gong)應鏈的國產(chan)(chan)化(hua)。