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著錄信息

  • 專利名稱:用于燒堿、片堿濃縮的降膜蒸發器中的再分布裝置
  • 專利類型:發明
  • 申請號:CN201310264708.3
  • 公開(公告)號:CN103349842B
  • 申請日:20130628
  • 公開(公告)日:20150916
  • 申請人:蘇州天沃科技股份有限公司
  • 發明人:彭小紅,杜修權,朱仁華,狐素琴,馬榮輝,陳華,康英龍,石建,葉展,劉帝,葉凌
  • 申請人地址:215633 江蘇省蘇州張家港市金港鎮后塍澄楊路
  • 申請人區域代碼:CN320582
  • 專利權人:蘇州天沃科技股份有限公司
  • 洛迦諾分類:
  • IPC:B01D1/22,B01D1/30,C01D1/42
  • 優先權:
  • 專利代理機構:南京蘇科專利代理有限責任公司 32102
  • 代理人:黃春松
  • 審查員:金橋
  • 國際申請:
  • 國際公開(公告):
  • 進入國家日期:
  • 分案申請:
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