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著錄信息

  • 專利名稱：中高溫光譜選擇性吸收涂層
  • 專利類型：發明
  • 申請號：CN201210442227.2
  • 公開(公告)號：CN102954611B
  • 申請日：20121107
  • 公開(公告)日：20140917
  • 申請人：北京市太陽能研究所集團有限公司
  • 發明人：王軒,張敏,尹萬里,崔銀芳,孫守建,朱敦智
  • 申請人地址：100012 北京市朝陽區北苑路大羊坊10號桑普大廈
  • 申請人區域代碼：CN110105
  • 專利權人：北京市太陽能研究所集團有限公司
  • 洛迦諾分類：無
  • IPC：F24J2/48,B32B33/00,C23C14/06,C23C14/35
  • 優先權：無
  • 專利代理機構：北京路浩知識產權代理有限公司 11002
  • 代理人：韓國勝
  • 審查員：鄧娜
  • 國際申請：無
  • 國際公開(公告)：無
  • 進入國家日期：無
  • 分案申請：無

關鍵詞

吸收層,選擇性吸收涂層,高溫光譜,金屬組分,光譜選擇性吸收涂層,金屬陶瓷復合膜,紅外反射層,高溫環境,工作溫度,鈍化層,發射比,反射層,粘結層,光熱,層膜,基底,大于
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