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專利名稱：一種光氣法制異氰酸酯的溶劑精制方法及所使用的裝置
專利類型：發明
申請號：CN201410128614.8
公開(公告)號：CN104974010B
申請日：20140401
公開(公告)日：20161026
申請人：萬華化學集團股份有限公司,萬華化學（寧波）有限公司
發明人：張宏科,姚雨,趙東科,華衛琦,陳斌,石德凱,陳青龍,徐丹,王陽,史其樂
申請人地址：264002 山東省煙臺市經濟技術開發區天山路17號
申請人區域代碼：CN370684
專利權人：萬華化學集團股份有限公司,萬華化學（寧波）有限公司
洛迦諾分類：無
IPC：C07C25/06,C07C25/08,C07C15/06,C07C7/12,C07C265/12,C07C265/14,C07C263/10,B01D53/04
優先權：無
專利代理機構：無
代理人：無
審查員：李佳博
國際申請：無
國際公開(公告)：無
進入國家日期：無
分案申請：無

關鍵詞

溶劑,異氰酸酯,精制,多級吸收塔,光氣法制,氯化氫,光氣,工藝可操作性,干燥劑吸水,帶色物質,精制溶劑,局部過熱,溶劑損耗,循環利用,板結,溝流,壓降

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