著錄信息
- 專利名稱：產生第二階厄米復變函數高斯光束的裝置
- 專利類型：實用新型
- 申請號：CN201521029630.8
- 公開(公告)號：CN205281028U
- 申請日：20151210
- 公開(公告)日：20160601
- 申請人：華南師范大學
- 發明人：黃加耀,鄧富,余偉浩,趙瑞璜,柯博,廖志強,鄧冬梅
- 申請人地址：510631 廣東省廣州市天河區中山大道西55號
- 申請人區域代碼：CN440106
- 專利權人：華南師范大學
- 洛迦諾分類：無
- IPC：G02B27/09
- 優先權：無
- 專利代理機構：深圳市智圈知識產權代理事務所(普通合伙) 44351
- 代理人：韓紹君
- 審查員：無
- 國際申請：無
- 國際公開(公告)：無
- 進入國家日期：無
- 分案申請：無
關鍵詞
高斯光束,厄米,分光,空間光調制器,傅里葉變換,準直擴束器,反射方式,反射光束,分光棱鏡,灰度信息,機械加工,透鏡光闌,相位調節,相位掩膜,信息傳輸,預先加載,裝置結構,起偏器,線偏振,操控,出射,對線,擴束,偏振,準直,生物學,實用,醫學,軍事,應用
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