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專利名稱:
一種基于CMOS工藝的超材料制備方法和超材料
專利類型:
發明
申請號:
CN201110120973.5
公開(公告)號:
CN102891369B
申請日:
20110511
公開(公告)日:
20160504
申請人:
深圳光啟高等理工研究院,深圳光啟創新技術有限公司
發明人:
劉若鵬,楊宗榮,趙治亞,繆錫根
申請人地址:
518000 廣東省深圳市南山區高新區中區高新中一道9號軟件大廈
申請人區域代碼:
CN440305
專利權人:
深圳光啟高等理工研究院,深圳光啟創新技術有限公司
洛迦諾分類:
無
IPC:
H01Q15/00
優先權:
無
專利代理機構:
無
代理人:
無
審查員:
馬菁
國際申請:
無
國際公開(公告):
無
進入國家日期:
無
分案申請:
無
關鍵(jian)詞
電介質層,超材料,微結構,第二金屬層,第一金屬層,通孔,一種,制作,微結構可控,電磁特性,制備方法,豐富,符合
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