著錄信息
- 專利名稱:一種調節襯底翹曲度的外延生長方法
- 專利類型:發明
- 申請號:CN201510163413.6
- 公開(公告)號:CN104752167B
- 申請日:20150408
- 公開(公告)日:20170929
- 申請人:圓融光電科技股份有限公司
- 發明人:焦建軍,黃小輝,周德保,康建,梁旭東
- 申請人地址:243000 安徽省馬鞍山市經濟技術開發區寶慶路399號1棟
- 申請人區域代碼:CN340503
- 專利權人:圓融光電科技股份有限公司
- 洛迦諾分類:無
- IPC:H01L21/02
- 優先權:無
- 專利代理機構:北京同立鈞成知識產權代理有限公司 11205
- 代理人:陶敏;黃健
- 審查員:孫健
- 國際申請:無
- 國際公開(公告):無
- 進入國家日期:無
- 分案申請:無
關鍵詞
生長,襯底,非摻雜氮化鎵層,橫向生長,外延生長,發光層,緩沖層,結構層,量子阱,翹曲度,影響發光二極管,波長均勻性,襯底翹曲,均勻性,有效地,波長
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