源于臺灣團隊(dui)25年經驗的專業黃光微影制程工藝及(ji)設備研發(fa),結合日本技術、臺灣機構(gou)、PLC電控、PC影像處理等各方面精英所組(zu)成,擁有(you)8項國際(ji)發(fa)明(ming)專利(li)及(ji)27項實用(yong)新型(xing)專利(li)及(ji)外觀設計專利(li)。
專營產品晶元制(zhi)(zhi)造(zao)黃光制(zhi)(zhi)程(cheng)CoaterandDeveloper(涂(tu)布顯影設備)系(xi)列,包括溫(wen)濕度(du)控制(zhi)(zhi)機(ji)、中央供酸系(xi)統、光阻PUMP等配套設備,及國外高端(duan)機(ji)型的(de)零件開發、工藝(yi)升級、設備改造(zao)服(fu)務等。
21世紀中(zhong)國(guo)(guo)已然成(cheng)為(wei)全球光電半導體(ti)發(fa)展和(he)生(sheng)產重(zhong)鎮,但主要制程(cheng)設備(bei)和(he)原(yuan)材料仍掌握(wo)在(zai)(zai)國(guo)(guo)外少數供應商手中(zhong),芯米愿成(cheng)為(wei)中(zhong)國(guo)(guo)半導體(ti)競爭力結構里的一環,也愿成(cheng)為(wei)國(guo)(guo)內(nei)高(gao)階設備(bei)制造(zao)及制程(cheng)工藝解決供應商,站在(zai)(zai)世界科技舞臺。