電子顯微鏡和光學顯微鏡的區別
1、照明源不同
電(dian)(dian)子顯微(wei)鏡所(suo)用的(de)照明源是電(dian)(dian)子槍(qiang)發出的(de)電(dian)(dian)子流,而光(guang)學顯微(wei)鏡的(de)照明源是可見光(guang)(日光(guang)或燈光(guang)),由于電(dian)(dian)子流的(de)波(bo)長(chang)遠短(duan)于光(guang)波(bo)波(bo)長(chang),故電(dian)(dian)子顯微(wei)鏡的(de)放大及分辨(bian)率顯著地高于光(guang)鏡。
2、透鏡不同
電(dian)子(zi)顯微鏡(jing)(jing)中(zhong)起放大作(zuo)用(yong)的(de)物(wu)鏡(jing)(jing)是電(dian)磁(ci)透(tou)鏡(jing)(jing)(能(neng)在中(zhong)央部位產(chan)生磁(ci)場的(de)環形電(dian)磁(ci)線圈),而(er)光(guang)學顯微鏡(jing)(jing)的(de)物(wu)鏡(jing)(jing)則是玻璃磨(mo)制而(er)成的(de)光(guang)學透(tou)鏡(jing)(jing)。電(dian)子(zi)顯微鏡(jing)(jing)中(zhong)的(de)電(dian)磁(ci)透(tou)鏡(jing)(jing)共有三組,分(fen)別與光(guang)學顯微鏡(jing)(jing)中(zhong)聚(ju)光(guang)鏡(jing)(jing)、物(wu)鏡(jing)(jing)和目鏡(jing)(jing)的(de)功能(neng)相當。
3、成像原理不同
在電(dian)(dian)(dian)(dian)子顯(xian)微鏡(jing)中,作(zuo)(zuo)用(yong)(yong)于(yu)(yu)被檢(jian)樣(yang)(yang)品(pin)的(de)(de)(de)電(dian)(dian)(dian)(dian)子束(shu)經電(dian)(dian)(dian)(dian)磁(ci)透(tou)鏡(jing)放大后(hou)打(da)到熒(ying)光屏上成(cheng)像(xiang)或作(zuo)(zuo)用(yong)(yong)于(yu)(yu)感光膠片成(cheng)像(xiang)。其電(dian)(dian)(dian)(dian)子濃(nong)淡的(de)(de)(de)差(cha)別產生的(de)(de)(de)機(ji)理是,電(dian)(dian)(dian)(dian)子束(shu)作(zuo)(zuo)用(yong)(yong)于(yu)(yu)被檢(jian)樣(yang)(yang)品(pin),入射(she)電(dian)(dian)(dian)(dian)子與物(wu)質的(de)(de)(de)原(yuan)子發生碰(peng)撞產生散射(she),由(you)于(yu)(yu)樣(yang)(yang)品(pin)不同(tong)部位對(dui)電(dian)(dian)(dian)(dian)子有不同(tong)散射(she)度,故樣(yang)(yang)品(pin)電(dian)(dian)(dian)(dian)子像(xiang)以(yi)(yi)濃(nong)淡呈現(xian)。而光學顯(xian)微鏡(jing)中樣(yang)(yang)品(pin)的(de)(de)(de)物(wu)像(xiang)以(yi)(yi)亮度差(cha)呈現(xian),它(ta)是由(you)被檢(jian)樣(yang)(yang)品(pin)的(de)(de)(de)不同(tong)結構吸收光線多少的(de)(de)(de)不同(tong)所造成(cheng)的(de)(de)(de)。
4、分辨率
光學顯(xian)微(wei)(wei)鏡因(yin)為(wei)(wei)光的(de)干涉與衍射作用(yong),分(fen)辨率(lv)(lv)只能局(ju)限(xian)于02-05um之間(jian)。電子(zi)顯(xian)微(wei)(wei)鏡因(yin)為(wei)(wei)采用(yong)電子(zi)束作為(wei)(wei)光源,其分(fen)辨率(lv)(lv)可(ke)達(da)到1-3nm之間(jian),因(yin)此光學顯(xian)微(wei)(wei)鏡的(de)組織(zhi)觀(guan)察(cha)屬(shu)于微(wei)(wei)米(mi)級(ji)分(fen)析,電子(zi)顯(xian)微(wei)(wei)鏡的(de)組織(zhi)觀(guan)測屬(shu)于納米(mi)級(ji)分(fen)析。
5、景深
一般光學(xue)顯(xian)(xian)微鏡(jing)的(de)(de)(de)景深在2-3um之間(jian),因此對(dui)(dui)樣品的(de)(de)(de)表面光滑程度(du)具有(you)(you)(you)(you)極高(gao)的(de)(de)(de)要求,所以制樣過程相對(dui)(dui)比較(jiao)復雜(za)。掃描電鏡(jing)的(de)(de)(de)精神(shen)則可(ke)高(gao)達幾個(ge)毫米,因此對(dui)(dui)樣品表面的(de)(de)(de)光滑程度(du)幾何沒(mei)有(you)(you)(you)(you)任何要求,樣品制備(bei)比較(jiao)簡單,有(you)(you)(you)(you)些樣品幾何無(wu)需制樣。體式顯(xian)(xian)微鏡(jing)雖(sui)然也(ye)具有(you)(you)(you)(you)比較(jiao)大的(de)(de)(de)景深,但其分(fen)辨率卻非常的(de)(de)(de)低。
6、所用標本制備方式不同
電(dian)子(zi)顯微鏡(jing)(jing)觀(guan)察(cha)所(suo)用組(zu)織細(xi)胞(bao)(bao)標(biao)本(ben)的(de)制備程序較復雜,技術難度和(he)費用都(dou)較高,在取(qu)材、固定、脫水和(he)包埋(mai)等環節(jie)上需要特殊的(de)試劑和(he)操(cao)作,最后(hou)還需將包埋(mai)好的(de)組(zu)織塊放人超薄切(qie)片機切(qie)成50~100nm厚(hou)的(de)超薄標(biao)本(ben)片。而(er)光鏡(jing)(jing)觀(guan)察(cha)的(de)標(biao)本(ben)則(ze)一般置于載玻片上,如普通組(zu)織切(qie)片標(biao)本(ben)、細(xi)胞(bao)(bao)涂片標(biao)本(ben)、組(zu)織壓(ya)片標(biao)本(ben)和(he)細(xi)胞(bao)(bao)滴片標(biao)本(ben)。
7、應用領域
光學顯微鏡主要用(yong)(yong)于(yu)光滑(hua)表面的(de)(de)微(wei)米級組織(zhi)(zhi)觀察(cha)(cha)與測量,因(yin)為(wei)采用(yong)(yong)可(ke)(ke)(ke)(ke)見(jian)光作(zuo)為(wei)光源(yuan)因(yin)此不僅能(neng)(neng)觀察(cha)(cha)樣品(pin)(pin)(pin)表層組織(zhi)(zhi)而且在表層以下的(de)(de)一定(ding)范圍(wei)內的(de)(de)組織(zhi)(zhi)同樣也(ye)可(ke)(ke)(ke)(ke)被觀察(cha)(cha)到,并且光學顯(xian)(xian)(xian)微(wei)鏡(jing)(jing)(jing)對(dui)于(yu)色彩的(de)(de)識(shi)別(bie)非常敏感和準確。電(dian)子顯(xian)(xian)(xian)微(wei)鏡(jing)(jing)(jing)主要用(yong)(yong)于(yu)納米級的(de)(de)樣品(pin)(pin)(pin)表面形貌(mao)觀測,因(yin)為(wei)掃(sao)(sao)描(miao)(miao)(miao)電(dian)鏡(jing)(jing)(jing)是(shi)(shi)依靠物(wu)理信(xin)號的(de)(de)強度來區分(fen)(fen)(fen)組織(zhi)(zhi)信(xin)息的(de)(de),因(yin)此掃(sao)(sao)描(miao)(miao)(miao)電(dian)鏡(jing)(jing)(jing)的(de)(de)圖像都(dou)是(shi)(shi)黑白的(de)(de),對(dui)于(yu)彩色圖像的(de)(de)識(shi)別(bie)掃(sao)(sao)描(miao)(miao)(miao)電(dian)鏡(jing)(jing)(jing)顯(xian)(xian)(xian)得無能(neng)(neng)為(wei)力。掃(sao)(sao)描(miao)(miao)(miao)電(dian)鏡(jing)(jing)(jing)不僅可(ke)(ke)(ke)(ke)以觀察(cha)(cha)樣品(pin)(pin)(pin)表面的(de)(de)組織(zhi)(zhi)形貌(mao),通(tong)過使用(yong)(yong)EDS、WDS、EBSD等不同的(de)(de)附件設(she)備,掃(sao)(sao)描(miao)(miao)(miao)電(dian)鏡(jing)(jing)(jing)還可(ke)(ke)(ke)(ke)進(jin)一步擴展使用(yong)(yong)功能(neng)(neng)。通(tong)過使用(yong)(yong)EDS、WDS輔助設(she)備,掃(sao)(sao)描(miao)(miao)(miao)電(dian)鏡(jing)(jing)(jing)可(ke)(ke)(ke)(ke)以對(dui)微(wei)區化學成分(fen)(fen)(fen)進(jin)行分(fen)(fen)(fen)析,這一點在失(shi)效(xiao)分(fen)(fen)(fen)析研究領域由(you)為(wei)重要。使用(yong)(yong)EBSD,掃(sao)(sao)描(miao)(miao)(miao)電(dian)鏡(jing)(jing)(jing)可(ke)(ke)(ke)(ke)以對(dui)材(cai)料(liao)的(de)(de)晶格(ge)取向進(jin)行研究。
8、放大倍數
光(guang)學(xue)顯微鏡有(you)效(xiao)放大(da)倍(bei)數(shu)1000X。電(dian)子顯微鏡有(you)效(xiao)放大(da)倍(bei)數(shu)可達(da)到(dao)1000,000X 。