電子顯微鏡和光學顯微鏡的區別

1、照明源不同

電子顯(xian)微(wei)鏡(jing)所用的(de)照明源(yuan)是電子槍(qiang)發出的(de)電子流，而光(guang)(guang)(guang)學顯(xian)微(wei)鏡(jing)的(de)照明源(yuan)是可(ke)見光(guang)(guang)(guang)(日(ri)光(guang)(guang)(guang)或(huo)燈光(guang)(guang)(guang))，由于(yu)電子流的(de)波長(chang)遠短于(yu)光(guang)(guang)(guang)波波長(chang)，故電子顯(xian)微(wei)鏡(jing)的(de)放大及(ji)分辨率顯(xian)著(zhu)地高于(yu)光(guang)(guang)(guang)鏡(jing)。

2、透鏡不同

電(dian)(dian)子(zi)顯微鏡(jing)(jing)中起放大作用(yong)的(de)(de)(de)物(wu)(wu)鏡(jing)(jing)是(shi)電(dian)(dian)磁透鏡(jing)(jing)(能在中央(yang)部位(wei)產生磁場的(de)(de)(de)環形電(dian)(dian)磁線(xian)圈)，而光學(xue)顯微鏡(jing)(jing)的(de)(de)(de)物(wu)(wu)鏡(jing)(jing)則是(shi)玻璃磨制而成的(de)(de)(de)光學(xue)透鏡(jing)(jing)。電(dian)(dian)子(zi)顯微鏡(jing)(jing)中的(de)(de)(de)電(dian)(dian)磁透鏡(jing)(jing)共有三組，分別(bie)與(yu)光學(xue)顯微鏡(jing)(jing)中聚光鏡(jing)(jing)、物(wu)(wu)鏡(jing)(jing)和(he)目鏡(jing)(jing)的(de)(de)(de)功能相(xiang)當。

3、成像原理不同

在(zai)電(dian)(dian)子(zi)顯(xian)微鏡中，作(zuo)(zuo)用于(yu)被(bei)檢(jian)(jian)樣(yang)品(pin)的(de)(de)電(dian)(dian)子(zi)束經電(dian)(dian)磁(ci)透鏡放大后打到(dao)熒光屏上成像或作(zuo)(zuo)用于(yu)感光膠片成像。其電(dian)(dian)子(zi)濃(nong)淡(dan)的(de)(de)差別產生(sheng)的(de)(de)機理是(shi)，電(dian)(dian)子(zi)束作(zuo)(zuo)用于(yu)被(bei)檢(jian)(jian)樣(yang)品(pin)，入(ru)射(she)電(dian)(dian)子(zi)與物質的(de)(de)原子(zi)發生(sheng)碰撞產生(sheng)散射(she)，由于(yu)樣(yang)品(pin)不(bu)(bu)同(tong)部位對電(dian)(dian)子(zi)有不(bu)(bu)同(tong)散射(she)度，故樣(yang)品(pin)電(dian)(dian)子(zi)像以濃(nong)淡(dan)呈現。而(er)光學顯(xian)微鏡中樣(yang)品(pin)的(de)(de)物像以亮度差呈現，它是(shi)由被(bei)檢(jian)(jian)樣(yang)品(pin)的(de)(de)不(bu)(bu)同(tong)結構吸收光線多少(shao)的(de)(de)不(bu)(bu)同(tong)所造成的(de)(de)。

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4、分辨率

光(guang)學(xue)顯(xian)(xian)微(wei)(wei)鏡(jing)因為光(guang)的(de)干涉(she)與衍射作(zuo)用(yong)，分(fen)辨率(lv)(lv)只能局限于(yu)02-05um之間(jian)。電(dian)子顯(xian)(xian)微(wei)(wei)鏡(jing)因為采用(yong)電(dian)子束作(zuo)為光(guang)源，其分(fen)辨率(lv)(lv)可達到1-3nm之間(jian)，因此光(guang)學(xue)顯(xian)(xian)微(wei)(wei)鏡(jing)的(de)組織觀察屬(shu)于(yu)微(wei)(wei)米級(ji)分(fen)析，電(dian)子顯(xian)(xian)微(wei)(wei)鏡(jing)的(de)組織觀測屬(shu)于(yu)納米級(ji)分(fen)析。

5、景深

一(yi)般(ban)光(guang)(guang)學顯微鏡的景(jing)深在2-3um之間，因此對樣(yang)(yang)品(pin)的表(biao)面光(guang)(guang)滑(hua)程(cheng)度(du)具有(you)極高的要(yao)求，所以制(zhi)(zhi)樣(yang)(yang)過程(cheng)相對比(bi)(bi)較復雜。掃描電鏡的精神則可高達幾(ji)個毫米，因此對樣(yang)(yang)品(pin)表(biao)面的光(guang)(guang)滑(hua)程(cheng)度(du)幾(ji)何沒有(you)任(ren)何要(yao)求，樣(yang)(yang)品(pin)制(zhi)(zhi)備比(bi)(bi)較簡單，有(you)些(xie)樣(yang)(yang)品(pin)幾(ji)何無需制(zhi)(zhi)樣(yang)(yang)。體式顯微鏡雖然(ran)也具有(you)比(bi)(bi)較大(da)的景(jing)深，但其分(fen)辨率(lv)卻(que)非(fei)常的低(di)。

6、所用標本制備方式不同

電子(zi)顯微鏡觀察(cha)所(suo)用組(zu)(zu)織細(xi)胞(bao)(bao)標(biao)(biao)(biao)本(ben)(ben)的制(zhi)備程序(xu)較復雜(za)，技術難度和(he)費用都較高(gao)，在取材(cai)、固定、脫水(shui)和(he)包埋(mai)等環節上需(xu)要特殊的試劑和(he)操作，最后還需(xu)將包埋(mai)好(hao)的組(zu)(zu)織塊放(fang)人超(chao)薄切(qie)片(pian)機切(qie)成50～100nm厚的超(chao)薄標(biao)(biao)(biao)本(ben)(ben)片(pian)。而光鏡觀察(cha)的標(biao)(biao)(biao)本(ben)(ben)則一般置于載玻片(pian)上，如普通組(zu)(zu)織切(qie)片(pian)標(biao)(biao)(biao)本(ben)(ben)、細(xi)胞(bao)(bao)涂片(pian)標(biao)(biao)(biao)本(ben)(ben)、組(zu)(zu)織壓片(pian)標(biao)(biao)(biao)本(ben)(ben)和(he)細(xi)胞(bao)(bao)滴片(pian)標(biao)(biao)(biao)本(ben)(ben)。

7、應用領域

光學顯微鏡主(zhu)要用(yong)于(yu)光(guang)滑(hua)表(biao)(biao)面(mian)的(de)(de)(de)(de)微(wei)米(mi)級組(zu)織(zhi)觀察(cha)與測量，因為(wei)(wei)采用(yong)可(ke)(ke)見光(guang)作為(wei)(wei)光(guang)源因此不(bu)(bu)僅能觀察(cha)樣品表(biao)(biao)層組(zu)織(zhi)而且(qie)(qie)在表(biao)(biao)層以(yi)下的(de)(de)(de)(de)一(yi)定(ding)范圍內的(de)(de)(de)(de)組(zu)織(zhi)同(tong)樣也可(ke)(ke)被(bei)觀察(cha)到，并且(qie)(qie)光(guang)學顯微(wei)鏡(jing)(jing)對于(yu)色彩(cai)(cai)的(de)(de)(de)(de)識別非常敏感和準確。電(dian)子(zi)顯微(wei)鏡(jing)(jing)主(zhu)要用(yong)于(yu)納米(mi)級的(de)(de)(de)(de)樣品表(biao)(biao)面(mian)形貌觀測，因為(wei)(wei)掃(sao)(sao)(sao)描(miao)電(dian)鏡(jing)(jing)是依靠(kao)物(wu)理信(xin)號的(de)(de)(de)(de)強(qiang)度來區分(fen)(fen)組(zu)織(zhi)信(xin)息的(de)(de)(de)(de)，因此掃(sao)(sao)(sao)描(miao)電(dian)鏡(jing)(jing)的(de)(de)(de)(de)圖像都(dou)是黑白的(de)(de)(de)(de)，對于(yu)彩(cai)(cai)色圖像的(de)(de)(de)(de)識別掃(sao)(sao)(sao)描(miao)電(dian)鏡(jing)(jing)顯得無(wu)能為(wei)(wei)力。掃(sao)(sao)(sao)描(miao)電(dian)鏡(jing)(jing)不(bu)(bu)僅可(ke)(ke)以(yi)觀察(cha)樣品表(biao)(biao)面(mian)的(de)(de)(de)(de)組(zu)織(zhi)形貌，通(tong)(tong)過(guo)使用(yong)EDS、WDS、EBSD等不(bu)(bu)同(tong)的(de)(de)(de)(de)附件設備，掃(sao)(sao)(sao)描(miao)電(dian)鏡(jing)(jing)還可(ke)(ke)進(jin)一(yi)步擴展(zhan)使用(yong)功(gong)能。通(tong)(tong)過(guo)使用(yong)EDS、WDS輔助設備，掃(sao)(sao)(sao)描(miao)電(dian)鏡(jing)(jing)可(ke)(ke)以(yi)對微(wei)區化學成分(fen)(fen)進(jin)行(xing)分(fen)(fen)析，這一(yi)點在失效分(fen)(fen)析研(yan)究領域由為(wei)(wei)重要。使用(yong)EBSD，掃(sao)(sao)(sao)描(miao)電(dian)鏡(jing)(jing)可(ke)(ke)以(yi)對材(cai)料的(de)(de)(de)(de)晶格取向進(jin)行(xing)研(yan)究。

8、放大倍數

光學顯(xian)微(wei)鏡(jing)有(you)效放大倍數1000X。電子顯(xian)微(wei)鏡(jing)有(you)效放大倍數可達到1000,000X 。