一、中國光刻機現在多少納米

2018年3月，上海微電子的90nm光刻機項目通過正式驗收。也就是說，我們的國產光刻機目前可以(yi)做到90納米工藝。

之前有(you)(you)網友(you)爆料，上海微(wei)電子將于(yu)2020年12月下(xia)線首臺(tai)采(cai)用(yong)ArF光(guang)源的SSA800/10W光(guang)刻(ke)(ke)機(ji)，這是(shi)一臺(tai)國產浸沒式(shi)DUV 光(guang)刻(ke)(ke)機(ji)，可實現單次曝光(guang)28nm節點(dian)。所以網絡里(li)一直流傳著這個說法(fa)。不過對于(yu)此(ci)消息(xi)，有(you)(you)人(ren)說是(shi)真(zhen)的，有(you)(you)人(ren)說是(shi)假的。讓人(ren)很是(shi)迷糊。

上海微電子的(de)確(que)在做可(ke)以實(shi)現(xian)28納米制(zhi)程的(de)國(guo)產DUV光刻機。只是是否通過驗收，到底(di)何(he)時能(neng)交付，目前未知。

28納米將會是(shi)我們國產(chan)光刻(ke)機的最高工(gong)藝水(shui)平，嚴格來(lai)說，這個真(zhen)的算(suan)不上高水(shui)平，它的前面還有14、7、5、3、2，甚至是(shi)1nm。

但是(shi)28納米是(shi)成熟(shu)工藝，生產(chan)成本(ben)低，只要不追求極(ji)致性能(neng)的情況下，這種(zhong)制程(cheng)的芯片，其性能(neng)也夠用的，用來生產(chan)我們(men)日常生活中的電(dian)子設備是(shi)沒(mei)有問題的，例如(ru)電(dian)視、電(dian)視盒子、音響、電(dian)梯、空(kong)調、微波爐(lu)、冰箱、汽(qi)車等等。

另外，根據研究(jiu)機(ji)構(gou)IC Insights發(fa)布的《2020-2024年全球晶圓產能》報告(gao)，預計到(dao)2024年，半導體制(zhi)程格(ge)局將出現10nm以(yi)下，10-20nm，20nm以(yi)上工藝(yi)三分天(tian)下的格(ge)局，各自市(shi)場占有率約為1/3，而28nm以(yi)上的成熟(shu)工藝(yi)在(zai)未來(lai)四年的市(shi)場份(fen)額沒有明顯變化，仍然有很大的市(shi)場，所(suo)以(yi)無(wu)需(xu)盲目地追(zhui)求(qiu)制(zhi)程工藝(yi)。

二、中國高端光刻機什么時候能研制出來

很多人(ren)疑惑，中國(guo)是(shi)世界上工業(ye)生產能力最(zui)強(qiang)的國(guo)家，為什(shen)么中國(guo)造(zao)不出(chu)高(gao)端的光(guang)刻(ke)機(ji)？其實最(zui)大的原因就是(shi)中國(guo)的工業(ye)是(shi)多而(er)不精。光(guang)刻(ke)機(ji)并(bing)不是(shi)一(yi)項(xiang)技(ji)術(shu)的突(tu)破(po)(po)，而(er)是(shi)一(yi)整(zheng)個光(guang)學領域(yu)絕大多數技(ji)術(shu)的突(tu)破(po)(po)。

目前全球最頂尖的(de)光刻機接近(jin)200噸，由差不多十萬個零(ling)件組(zu)成。其中絕大多數(shu)都是核(he)心零(ling)件，每一(yi)個零(ling)件都需(xu)要(yao)(yao)很多技(ji)術的(de)突(tu)破才能(neng)做出來。有工程(cheng)師稱(cheng)，里面(mian)一(yi)些(xie)零(ling)件需(xu)要(yao)(yao)打磨十年才能(neng)誕生。

雖然最(zui)先進的(de)(de)光(guang)刻機(ji)出自荷蘭，但荷蘭公司(si)也只是做一(yi)個(ge)組裝(zhuang)和調試(shi)的(de)(de)工作，里(li)面的(de)(de)核心(xin)零(ling)件來(lai)源于大(da)多數西方(fang)國(guo)(guo)家。從(cong)美國(guo)(guo)到英國(guo)(guo)，從(cong)法國(guo)(guo)到比利時，所有站在西方(fang)陣營的(de)(de)國(guo)(guo)家合在一(yi)起，才能造出一(yi)臺最(zui)頂尖的(de)(de)光(guang)刻機(ji)。所以中國(guo)(guo)要造最(zui)頂尖的(de)(de)光(guang)刻機(ji)并不是在和某一(yi)個(ge)國(guo)(guo)家對抗，而是在和整個(ge)西方(fang)世界(jie)對抗。

這(zhe)(zhe)就(jiu)好(hao)(hao)比(bi)班級考試(shi)，考試(shi)的(de)科(ke)目(mu)(mu)(mu)有(you)數百(bai)科(ke)。總(zong)成(cheng)(cheng)績(ji)好(hao)(hao)點的(de)學生(sheng)(sheng)(sheng)固然(ran)能考出一(yi)個(ge)比(bi)較高(gao)的(de)總(zong)成(cheng)(cheng)績(ji)，但是這(zhe)(zhe)個(ge)學生(sheng)(sheng)(sheng)不能讓自己每(mei)一(yi)科(ke)的(de)成(cheng)(cheng)績(ji)都達(da)到最高(gao)。和他相比(bi)，那些(xie)成(cheng)(cheng)績(ji)不好(hao)(hao)的(de)學生(sheng)(sheng)(sheng)雖然(ran)偏科(ke)，但是他們總(zong)有(you)一(yi)兩科(ke)自己擅長(chang)的(de)科(ke)目(mu)(mu)(mu)，這(zhe)(zhe)些(xie)科(ke)目(mu)(mu)(mu)總(zong)有(you)得高(gao)分甚至是滿(man)分的(de)機會。這(zhe)(zhe)些(xie)學生(sheng)(sheng)(sheng)最好(hao)(hao)的(de)科(ke)目(mu)(mu)(mu)加起(qi)來，就(jiu)能組成(cheng)(cheng)一(yi)個(ge)非常高(gao)的(de)“各科(ke)總(zong)成(cheng)(cheng)績(ji)”。

要造出最頂端(duan)的光刻機，就(jiu)需要這(zhe)些科目每一(yi)顆(ke)都得(de)到極高的分數甚至是(shi)滿分。所以(yi)中(zhong)國(guo)的光刻機之路(lu)并不是(shi)突(tu)破(po)幾(ji)項新技術就(jiu)能走穩、走好的，中(zhong)國(guo)需要在整(zheng)個光學技術上的絕大(da)多數技術中(zhong)得(de)到突(tu)破(po)，才能以(yi)一(yi)個國(guo)家(jia)的科技實力對(dui)抗(kang)整(zheng)個西方社(she)會。

很(hen)多人疑惑(huo)中(zhong)(zhong)國(guo)(guo)(guo)什么時(shi)候能造出最頂尖的(de)光刻(ke)機，這個問題(ti)的(de)答案沒有(you)(you)任何人能給(gei)出來。中(zhong)(zhong)國(guo)(guo)(guo)在光刻(ke)機領域遇到的(de)困難，和中(zhong)(zhong)國(guo)(guo)(guo)當(dang)年造原子彈(dan)(dan)時(shi)，沒有(you)(you)計算(suan)機，沒有(you)(you)離(li)心(xin)機，沒有(you)(you)數(shu)據(ju)資料一樣困難。當(dang)年中(zhong)(zhong)國(guo)(guo)(guo)在美國(guo)(guo)(guo)造出原子彈(dan)(dan)接近(jin)9年后擁(yong)有(you)(you)了自己的(de)原子彈(dan)(dan)，中(zhong)(zhong)國(guo)(guo)(guo)現在打算(suan)大力研(yan)制光刻(ke)機也是近(jin)兩年的(de)事情。

就目前來說，我國最頂尖的光刻機也就(jiu)是國際上(shang)2005年(nian)左右的(de)光刻(ke)機最(zui)頂尖水(shui)(shui)平，差距在(zai)(zai)15年(nian)左右。所以很多人認(ren)為，我(wo)國應該會在(zai)(zai)十(shi)來年(nian)左右達到讓自己的(de)光刻(ke)機達到國際社會的(de)最(zui)頂尖水(shui)(shui)平。