一、光刻機和芯片有什么關系

光刻機又被稱為掩膜對準曝光機，在芯片生產中用于光刻工藝，而光刻工藝又是生產流程中最關鍵的一步，所以光刻機又是芯片生產中不可缺少的設備，總得來說光刻機是用來制造芯片的。

光刻(ke)機是光刻(ke)技(ji)術的載體，而光刻(ke)技(ji)術是芯片技(ji)術的重要(yao)部分，光刻(ke)機的原理就是用(yong)光把圖案投(tou)射到硅片上。如(ru)果(guo)想要(yao)自主生產芯片，光刻(ke)機是必(bi)要(yao)的，就像工業中的機床一(yi)樣。

光刻機與(yu)芯(xin)片存在著密不(bu)可分(fen)的(de)(de)關系(xi)。芯(xin)片與(yu)光刻機的(de)(de)關系(xi)，就(jiu)好(hao)比是(shi)魚和水。沒了光刻機，再高端的(de)(de)芯(xin)片技術也(ye)只能停留在理想層面。目(mu)前，世界最高端的(de)(de)光刻機來自荷蘭，相信(xin)不(bu)久之(zhi)后(hou)中國也(ye)能擁有獨立(li)自主的(de)(de)光刻機技術。

二、光刻機和芯片哪個更難

都(dou)很難的(de)。因為(wei)芯片從設(she)計到生(sheng)產(chan)制造(zao)都(dou)是一(yi)個復雜工藝，目前國內，芯片設(she)計軟件和生(sheng)產(chan)核心光(guang)(guang)刻(ke)機都(dou)是國外的(de)。不過光(guang)(guang)刻(ke)機難度最大，因為(wei)再好(hao)的(de)設(she)計也需要(yao)做出來(lai)才能算(suan)成功(gong)，而(er)且(qie)還要(yao)保持良品(pin)率。

以我們(men)(men)掌(zhang)握程度為難易判斷標準，我們(men)(men)掌(zhang)握了就(jiu)不算難，沒(mei)掌(zhang)握的就(jiu)算難。

芯片設(she)計，手機通信我(wo)(wo)們(men)有華(hua)為(wei)，中興，展銳等。通用桌面服(fu)務器有龍芯，華(hua)為(wei)，申威等。我(wo)(wo)們(men)已經(jing)具有完整的正向設(she)計能力，部(bu)分芯片設(she)計已經(jing)接近頂尖(jian)水平，差距一代(dai)不到。

芯片(pian)制造(zao)，中(zhong)芯國際量(liang)產14納(na)(na)米，有(you)望(wang)突破7納(na)(na)米。華虹(hong)半導體也已經初步量(liang)產14納(na)(na)米。跟最先進(jin)的臺積電和三星半導體比還有(you)很(hen)大的差距，差距一代(dai)多。

光(guang)刻(ke)機(ji)(ji)，我(wo)(wo)(wo)們(men)(men)(men)可以(yi)完全(quan)自主量產90納米光(guang)刻(ke)機(ji)(ji)。現在最(zui)先進(jin)的極紫外光(guang)刻(ke)機(ji)(ji)只有荷(he)蘭(lan)ASML能(neng)夠供貨，我(wo)(wo)(wo)們(men)(men)(men)跟ASML差(cha)了三代。根據公開(kai)信息，我(wo)(wo)(wo)們(men)(men)(men)28納米光(guang)刻(ke)機(ji)(ji)關鍵部件(jian)已經(jing)全(quan)部完成攻關，今年底有望出整機(ji)(ji)樣機(ji)(ji)，兩年內量產。28納米現在世界(jie)上有兩個(ge)(ge)國家量產，荷(he)蘭(lan)和日本。我(wo)(wo)(wo)們(men)(men)(men)今年如果能(neng)夠踏入這個(ge)(ge)陣(zhen)營，差(cha)距縮小到一(yi)代。

綜合起來，光刻機差距現在最(zui)大(da)，是最(zui)難的(de)(de)。但不管什么技術，只要持續不斷的(de)(de)投入，不被眼前的(de)(de)困難嚇倒，培養人(ren)才梯隊，追趕和超越是遲(chi)早的(de)(de)。