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人物簡介

中文名：尹志堯

出生地：北京

畢業院校：中(zhong)國科學技術大學

人物履歷

1962年，考入(ru)科大化學物理系(xi)。由于文(wen)革(ge)的緣故，遲到1968年春才畢業。

1968-1971年，在蘭州煉油廠工作。

1973年，轉到中科院蘭(lan)州物理化學所。

1978-1980年(nian)，在北(bei)大化學系讀碩士學位。

1980年，在美(mei)國一些親戚的幫(bang)助下(xia)，來到加(jia)州(zhou)大學洛(luo)杉嘰分(fen)校攻(gong)讀博士學位(wei)。三年半(ban)就拿到物(wu)理(li)化學博士學位(wei)。

1984年(nian)(nian)，以后(hou)的16年(nian)(nian)里(li)一直在(zai)硅谷(gu)工作。開(kai)始(shi)是(shi)在(zai)Intel公司的中心技(ji)術發展部(bu)門(men)做(zuo)電漿蝕刻工作。

1986年，轉到(dao)LAM研究所，開始是高級工(gong)程(cheng)師，后來做(zuo)到(dao)了技術發展經理(li)。在(zai)那里尹(yin)志堯負責彩虹等離子(zi)體刻蝕設備的開發。LAM靠著(zhu)一(yi)些(xie)非常好的產品成為這(zhe)個領域(yu)的領先者之一(yi)。

1991年，尹志堯(yao)來到應用材(cai)料公司，負(fu)責同一(yi)(yi)領(ling)域的(de)(de)研究(jiu)開(kai)發(fa)(fa)工作，先后獲得(de)了60多個美國(guo)和國(guo)外的(de)(de)專(zhuan)利，還有(you)一(yi)(yi)些正等著批準。尹志堯(yao)開(kai)發(fa)(fa)或(huo)參與開(kai)發(fa)(fa)的(de)(de)產品，現在(zai)在(zai)這個領(ling)域大概占了全世界(jie)的(de)(de)50％。曾任Applied Materials應用材(cai)料公司的(de)(de)副(fu)總裁，負(fu)責等離子體刻蝕部(bu)門的(de)(de)業(ye)務(wu)。另外，還幫助(zhu)成(cheng)立了硅(gui)谷(gu)中國(guo)工程師(shi)協會，并(bing)擔任了頭兩任的(de)(de)主席。

2004年，他和(he)美國硅谷幾(ji)個志(zhi)同道合的伙伴(ban)回到上海，組建了中微半導體設備(bei)公司（AMEC），他自(zi)己(ji)擔任(ren)公司董事(shi)長兼總裁。

榮譽成就

2012年(nian)，尹(yin)志堯獲得上海市“白玉蘭(lan)紀念(nian)獎”。