研究人(ren)員開(kai)發(fa)出新型(xing)飛(fei)秒激(ji)(ji)光等離(li)子(zi)激(ji)(ji)元光刻技術(shu)(FPL),該技術(shu)可在二維薄(bo)膜(mo)材(cai)料(liao)上能夠(gou)實現大面(mian)積高質量亞微米周期(qi)結構(gou)的(de)快(kuai)速制備。加(jia)工(gong)過程不(bu)易受材(cai)料(liao)表面(mian)缺陷、雜(za)質等因素的(de)影響,加(jia)工(gong)基(ji)底也(ye)不(bu)易受到材(cai)料(liao)種類的(de)限制。為相關材(cai)料(liao)周期(qi)性(xing)微納結構(gou)的(de)靈(ling)活制備奠定了基(ji)礎(chu)。
中科院長春光(guang)學精(jing)密機械與(yu)物理研究(jiu)所(suo)研究(jiu)人員(yuan)開發了(le)(le)一種(zhong)新型飛秒激光(guang)等離(li)子激元(yuan)光(guang)刻(ke)技(ji)術(FPL)。利(li)用該技(ji)術,研究(jiu)人員(yuan)在百納米(mi)厚的(de)硅(gui)基氧化石墨烯薄膜表面實(shi)現(xian)了(le)(le)高(gao)質量微納周期結構(gou)的(de)快速制(zhi)(zhi)備,首(shou)次證明了(le)(le)FPL技(ji)術在二(er)維薄膜材料(liao)上能夠實(shi)現(xian)大(da)面積(ji)高(gao)質量亞(ya)微米(mi)周期結構(gou)的(de)快速制(zhi)(zhi)備。
在此之前,在石墨烯上(shang)制(zhi)備微納結構的技術有(you)自(zi)組裝、電(dian)子束刻蝕和極紫外光刻等(deng),但(dan)這些技術存在著耗時長、成本高、缺乏通用性等(deng)問題。
FPL技術加(jia)工過程不易受(shou)材(cai)料(liao)表面缺陷、雜質等因素(su)的(de)(de)(de)(de)影響,加(jia)工基底也(ye)不易受(shou)到材(cai)料(liao)種類(lei)的(de)(de)(de)(de)限(xian)制。加(jia)工材(cai)料(liao)表現出了優異(yi)的(de)(de)(de)(de)機械性(xing)能,可以利用傳統的(de)(de)(de)(de)濕轉(zhuan)移法進行完整(zheng)轉(zhuan)移。這為(wei)相關材(cai)料(liao)周期性(xing)微(wei)納結(jie)構的(de)(de)(de)(de)靈活制備(bei)奠定了基礎(chu)。
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