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真空滅弧室行業前景怎么樣 真空滅弧室的發展趨勢分析

本文章由注冊用戶 時代工業園 上傳提供 2025-05-22 評論 0
摘要:真空滅弧室在電力領域應用廣泛,我國真空滅弧室行業起步較晚,但推廣速度較快,隨著我國對智能電網的重點投資,真空滅弧室行業擁有穩定且廣闊的市場前景,未來真空滅弧室的發展主要呈現小型化、低成本和高電壓三大發展趨勢。下面一起來看看真空滅弧室行業前景怎么樣以及真空滅弧室的發展趨勢分析吧。

一、真空滅弧室行業前景怎么樣

真空滅弧室又被稱作為真空開關管,是中高壓電力開關的核心部件,廣泛應用于電力的輸配電控制系統。我國真空滅弧室行業市場應用時間(jian)雖然較晚,但推(tui)廣速度較快,相關產品的應用已(yi)逐漸(jian)進入成(cheng)熟期。

未(wei)(wei)(wei)來(lai)在我國對智能電網的(de)重(zhong)點投資(zi)的(de)背景(jing)下(xia),我國真(zhen)(zhen)空滅弧(hu)室(shi)行業將穩定增(zeng)(zeng)長,未(wei)(wei)(wei)來(lai)整(zheng)體(ti)增(zeng)(zeng)速約(yue)為4%左右;并且隨著未(wei)(wei)(wei)來(lai)對高壓(ya)(ya)交(jiao)流(liu)真(zhen)(zhen)空滅弧(hu)室(shi)的(de)市(shi)場需(xu)求(qiu)將進(jin)一步擴大,高壓(ya)(ya)交(jiao)流(liu)真(zhen)(zhen)空滅弧(hu)室(shi)市(shi)場前景(jing)廣闊。

二、真空滅弧室的發展趨勢分析

當前(qian)真空(kong)開(kai)關正向(xiang)著更高電壓等(deng)級的(de)(de)方向(xiang)發展,因此真空(kong)滅(mie)(mie)弧室內(nei)部絕緣結構的(de)(de)合理(li)設計成為重(zhong)要的(de)(de)研(yan)究課題之(zhi)一,未來(lai)真空(kong)滅(mie)(mie)弧室的(de)(de)發展主要呈現以下幾大趨勢(shi):

1、小型化

真(zhen)空(kong)電(dian)弧理(li)論的發展和(he)內部電(dian)場優化使真(zhen)空(kong)滅(mie)弧室體(ti)積更小;復合絕(jue)緣技術(shu)的應(ying)用(yong)(yong)使真(zhen)空(kong)滅(mie)弧室結構(gou)尺寸(cun)大大減小;真(zhen)空(kong)斷路(lu)器機械特性的改進、同步開斷技術(shu)和(he)高性能觸頭材料的應(ying)用(yong)(yong)使真(zhen)空(kong)滅(mie)弧室“升級”,使用(yong)(yong)成為可(ke)能。

真(zhen)空滅(mie)弧室(shi)的(de)小(xiao)型化(hua)工作不(bu)論在國內還是(shi)在國外(wai)已經進行了(le)很多年(nian),并(bing)已取得了(le)一定的(de)成效,如德國Calor-Emag公司(si)新(xin)研(yan)制成的(de)VC2型真(zhen)空斷(duan)路器(qi),其12kV、20kA的(de)真(zhen)空滅(mie)弧室(shi)的(de)觸(chu)頭(tou)直(zhi)徑僅為40mm,12kV、50kA真(zhen)空滅(mie)弧室(shi)的(de)觸(chu)頭(tou)直(zhi)徑為80mm。

2、低成本

真空滅(mie)弧室的(de)(de)小(xiao)型化保證了低成(cheng)本(ben)實現的(de)(de)可能。在近20年的(de)(de)時間(jian)里(li),國產真空滅(mie)弧室的(de)(de)體積(ji)減小(xiao)了50%,價(jia)格降(jiang)(jiang)低了70%左右,其(qi)中有生產廠家提(ti)高(gao)工(gong)(gong)藝(yi)水平(如(ru)一次封(feng)排工(gong)(gong)藝(yi)的(de)(de)普遍采用),提(ti)高(gao)生產效率和降(jiang)(jiang)低生產成(cheng)本(ben)的(de)(de)努力,也與(yu)觸頭、波(bo)紋管、陶(tao)瓷(ci)殼等零(ling)件成(cheng)本(ben)的(de)(de)降(jiang)(jiang)低密切相(xiang)關(guan)。

3、高電壓

隨著真(zhen)(zhen)空(kong)開(kai)關(guan)制(zhi)造技(ji)術和理論研(yan)究水平的(de)不斷(duan)提高(gao),真(zhen)(zhen)空(kong)開(kai)關(guan)的(de)發展已(yi)在嘗試著向高(gao)電(dian)壓大容量方向發展。美國通用電(dian)氣公(gong)司(si)1980年后生(sheng)產出(chu)了(le)168kV/40kA的(de)雙(shuang)(shuang)斷(duan)口(kou)真(zhen)(zhen)空(kong)斷(duan)路器(qi),日(ri)本明電(dian)舍公(gong)司(si)1980年開(kai)始(shi)生(sheng)產145kV/31.5kA單(dan)斷(duan)口(kou)真(zhen)(zhen)空(kong)斷(duan)路器(qi),日(ri)本東芝公(gong)司(si)1987年研(yan)制(zhi)成功了(le)145kV/31.5kA單(dan)斷(duan)口(kou)真(zhen)(zhen)空(kong)滅弧室及(ji)168kV雙(shuang)(shuang)斷(duan)口(kou)真(zhen)(zhen)空(kong)斷(duan)路器(qi)。

此外,日本三菱公司已研制成功270kV單斷口真空滅弧室,并(bing)且準備發(fa)展500kV雙斷口真空斷路器(qi),一(yi)旦研制成功,估計其(qi)造價(jia)比(bi)同(tong)電(dian)壓等級的(de)六氟化硫斷路器(qi)低。國內目前(qian)已有北京開關(guan)廠和(he)西安高壓開關(guan)廠研制的(de)126kV真空斷路器(qi)(均采用日本明電(dian)舍(she)真空滅弧(hu)室)一(yi)次通過了全部(bu)型式試驗并(bing)完成鑒(jian)定。

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