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真空滅弧室行業前景怎么樣 真空滅弧室的發展趨勢分析

本文章由注冊用戶 時代工業園 上傳提供 2025-05-22 評論 0
摘要:真空滅弧室在電力領域應用廣泛,我國真空滅弧室行業起步較晚,但推廣速度較快,隨著我國對智能電網的重點投資,真空滅弧室行業擁有穩定且廣闊的市場前景,未來真空滅弧室的發展主要呈現小型化、低成本和高電壓三大發展趨勢。下面一起來看看真空滅弧室行業前景怎么樣以及真空滅弧室的發展趨勢分析吧。

一、真空滅弧室行業前景怎么樣

真空滅弧室又被稱作為真空開關管,是中高壓電力開關的核心部件,廣泛應用于電力的輸配電控制系統。我國真空滅弧室行業市場應用時間雖然(ran)較晚,但推廣速度較快(kuai),相關產品的應用已逐漸(jian)進入成熟期。

未(wei)來在我國(guo)對智能電網的(de)重點投資(zi)的(de)背景下(xia),我國(guo)真空滅弧(hu)室(shi)行業(ye)將穩(wen)定增長(chang),未(wei)來整體增速約為4%左右;并且(qie)隨著未(wei)來對高壓交流真空滅弧(hu)室(shi)的(de)市場(chang)需求將進一步擴(kuo)大,高壓交流真空滅弧(hu)室(shi)市場(chang)前(qian)景廣闊。

二、真空滅弧室的發展趨勢分析

當前(qian)真(zhen)空開關正向著更高電壓(ya)等級的(de)(de)方向發展,因(yin)此真(zhen)空滅(mie)弧(hu)室(shi)內部絕緣結構(gou)的(de)(de)合理設計成為重(zhong)要的(de)(de)研究課題之(zhi)一,未(wei)來真(zhen)空滅(mie)弧(hu)室(shi)的(de)(de)發展主要呈現(xian)以下(xia)幾大(da)趨(qu)勢(shi):

1、小型化

真(zhen)(zhen)(zhen)空電弧(hu)理論的發展和內部電場優化使(shi)真(zhen)(zhen)(zhen)空滅弧(hu)室(shi)體積更(geng)小;復合絕緣技術(shu)的應(ying)用(yong)使(shi)真(zhen)(zhen)(zhen)空滅弧(hu)室(shi)結構尺寸大(da)大(da)減小;真(zhen)(zhen)(zhen)空斷路器機械特性的改(gai)進、同步開斷技術(shu)和高性能觸頭材料的應(ying)用(yong)使(shi)真(zhen)(zhen)(zhen)空滅弧(hu)室(shi)“升級”,使(shi)用(yong)成為可能。

真(zhen)空滅(mie)弧(hu)室的(de)(de)(de)小(xiao)型(xing)化(hua)工作不論在(zai)國(guo)內還(huan)是在(zai)國(guo)外已經進行了很(hen)多年,并已取(qu)得了一定的(de)(de)(de)成(cheng)效,如德國(guo)Calor-Emag公司(si)新研制成(cheng)的(de)(de)(de)VC2型(xing)真(zhen)空斷路器,其12kV、20kA的(de)(de)(de)真(zhen)空滅(mie)弧(hu)室的(de)(de)(de)觸(chu)頭直徑僅為40mm,12kV、50kA真(zhen)空滅(mie)弧(hu)室的(de)(de)(de)觸(chu)頭直徑為80mm。

2、低成本

真空滅(mie)弧室的(de)(de)小(xiao)型(xing)化保(bao)證了(le)(le)低成(cheng)本實現(xian)的(de)(de)可能。在近(jin)20年(nian)的(de)(de)時間(jian)里,國產真空滅(mie)弧室的(de)(de)體積減小(xiao)了(le)(le)50%,價(jia)格降低了(le)(le)70%左右,其中有生(sheng)產廠家提高工藝水平(如一次封(feng)排工藝的(de)(de)普遍采用),提高生(sheng)產效率和降低生(sheng)產成(cheng)本的(de)(de)努力(li),也與觸頭、波紋管、陶瓷殼(ke)等零(ling)件成(cheng)本的(de)(de)降低密切相關(guan)。

3、高電壓

隨著真(zhen)空(kong)開(kai)關(guan)制造技術(shu)和(he)理論研(yan)究水平的(de)不斷(duan)提高(gao),真(zhen)空(kong)開(kai)關(guan)的(de)發展已在嘗試著向(xiang)高(gao)電壓大容量方向(xiang)發展。美(mei)國通用電氣公(gong)司(si)1980年后生(sheng)產出(chu)了168kV/40kA的(de)雙斷(duan)口真(zhen)空(kong)斷(duan)路(lu)(lu)器,日(ri)本(ben)明電舍公(gong)司(si)1980年開(kai)始(shi)生(sheng)產145kV/31.5kA單斷(duan)口真(zhen)空(kong)斷(duan)路(lu)(lu)器,日(ri)本(ben)東芝公(gong)司(si)1987年研(yan)制成功(gong)了145kV/31.5kA單斷(duan)口真(zhen)空(kong)滅弧室(shi)及168kV雙斷(duan)口真(zhen)空(kong)斷(duan)路(lu)(lu)器。

此外,日本三菱公司已研制成功270kV單斷口真空滅弧室,并且準(zhun)備發展500kV雙斷口真(zhen)空斷路(lu)器(qi),一(yi)旦(dan)研(yan)制成功,估計其造(zao)價(jia)比同電(dian)壓等(deng)級的六氟化硫(liu)斷路(lu)器(qi)低。國內(nei)目前(qian)已有北京開關(guan)廠(chang)和西安高壓開關(guan)廠(chang)研(yan)制的126kV真(zhen)空斷路(lu)器(qi)(均采用日(ri)本明電(dian)舍真(zhen)空滅弧室)一(yi)次通過了全部型(xing)式試驗(yan)并完(wan)成鑒(jian)定。

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