一、靶材是什么材料
靶(ba)材(cai)是(shi)通過(guo)磁(ci)控濺射(she)、多弧(hu)離(li)子鍍(du)或(huo)其他類型(xing)的(de)(de)(de)(de)鍍(du)膜(mo)系統在適當工藝條件下濺射(she)在基板上形成各種功能薄膜(mo)的(de)(de)(de)(de)濺射(she)源。簡單說的(de)(de)(de)(de)話，靶(ba)材(cai)就是(shi)高速荷能粒(li)子轟擊的(de)(de)(de)(de)目標材(cai)料，用(yong)于高能激光武器中，不(bu)同(tong)功率密度、不(bu)同(tong)輸出波形、不(bu)同(tong)波長(chang)的(de)(de)(de)(de)激光與不(bu)同(tong)的(de)(de)(de)(de)靶(ba)材(cai)相互作用(yong)時，會產(chan)生不(bu)同(tong)的(de)(de)(de)(de)殺傷破壞效應。例如(ru)：蒸發磁(ci)控濺射(she)鍍(du)膜(mo)是(shi)加熱(re)蒸發鍍(du)膜(mo)、鋁(lv)膜(mo)等。更換不(bu)同(tong)的(de)(de)(de)(de)靶(ba)材(cai)（如(ru)鋁(lv)、銅、不(bu)銹鋼、鈦、鎳靶(ba)等），即(ji)可得到不(bu)同(tong)的(de)(de)(de)(de)膜(mo)系（如(ru)超硬、耐磨、防腐的(de)(de)(de)(de)合金(jin)膜(mo)等）。
二、靶材的用途
1、用于顯示器上
靶(ba)材目前(qian)被普遍應(ying)用(yong)于平面(mian)顯示器（FPD)上。近(jin)年(nian)來，平面(mian)顯示器在市場(chang)(chang)上的應(ying)用(yong)率逐年(nian)增高，同時也帶動了ITO靶(ba)材的技(ji)術與市場(chang)(chang)需求。ITO靶(ba)材有(you)兩種，一種是采用(yong)銦錫合金靶(ba)材，另外一種是采用(yong)納米狀態的氧(yang)化銦和氧(yang)化錫粉(fen)混合后(hou)燒結。
2、用于微電子領域
靶材也(ye)被應用于(yu)半(ban)導體產業，相對來(lai)說半(ban)導體產業對于(yu)靶材濺射薄膜的(de)品(pin)質(zhi)要(yao)求(qiu)是(shi)比較(jiao)苛刻的(de)。現在12英寸（300衄(nv)口）的(de)硅晶片也(ye)被制作出來(lai)，但(dan)是(shi)互連線的(de)寬度(du)卻在減小。目前硅片制造商對于(yu)靶材的(de)要(yao)求(qiu)都是(shi)大尺寸、高純度(du)、低偏(pian)析(xi)以及細晶粒等，對其(qi)品(pin)質(zhi)要(yao)求(qiu)比較(jiao)高，這(zhe)就(jiu)要(yao)求(qiu)靶材需要(yao)具有更好的(de)微觀結(jie)構。
3、用于存儲技術上
存(cun)儲技術行業對于靶材(cai)的需求量(liang)很大(da)(da)，高(gao)密(mi)度、大(da)(da)容量(liang)硬盤的發展(zhan)，離不(bu)開大(da)(da)量(liang)的巨(ju)磁阻(zu)薄膜(mo)(mo)材(cai)料，CoF~Cu多(duo)層(ceng)復合膜(mo)(mo)是如今應用(yong)比較廣泛的巨(ju)磁阻(zu)薄膜(mo)(mo)結構。磁光盤需要(yao)的TbFeCo合金靶材(cai)還(huan)在(zai)進一步發展(zhan)，用(yong)它制(zhi)造出來的磁光盤有著使用(yong)壽(shou)命(ming)長、存(cun)儲容量(liang)大(da)(da)以及可反(fan)復無接觸(chu)擦(ca)寫的特點。
三、靶材的分類有哪些
1、根據不同材質劃分
（1）金屬靶材
鎳(nie)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)Ni、鈦靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)Ti、鋅靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)Zn、鉻(ge)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)Cr、鎂靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)Mg、鈮靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)Nb、錫(xi)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)Sn、鋁靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)Al、銦靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)In、鐵靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)Fe、鋯鋁靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)ZrAl、鈦鋁靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)TiAl、鋯靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)Zr、鋁硅靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)AlSi、硅靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)Si、銅靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)Cu、鉭(tan)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)Ta、鍺靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)Ge、銀靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)Ag、鈷靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)Co、金(jin)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)Au、釓(ga)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)Gd、鑭靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)La、釔靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)Y、鈰(shi)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)Ce、不銹(xiu)鋼靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、鎳(nie)鉻(ge)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)NiCr、鉿(jia)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)Hf、鉬靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)Mo、鐵鎳(nie)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)FeNi、鎢靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、W等。
（2）陶瓷靶材
ITO靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、氧(yang)(yang)(yang)(yang)化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)鎂靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、氧(yang)(yang)(yang)(yang)化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)鐵靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、氮化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)硅(gui)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、碳化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)硅(gui)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、氮化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)鈦(tai)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、氧(yang)(yang)(yang)(yang)化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)鉻靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、氧(yang)(yang)(yang)(yang)化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)鋅(xin)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、硫化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)鋅(xin)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、二(er)(er)氧(yang)(yang)(yang)(yang)化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)硅(gui)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、一(yi)氧(yang)(yang)(yang)(yang)化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)硅(gui)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、氧(yang)(yang)(yang)(yang)化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)鈰(shi)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、二(er)(er)氧(yang)(yang)(yang)(yang)化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)鋯靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、五(wu)氧(yang)(yang)(yang)(yang)化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)二(er)(er)鈮(ni)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、二(er)(er)氧(yang)(yang)(yang)(yang)化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)鈦(tai)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、二(er)(er)氧(yang)(yang)(yang)(yang)化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)鋯靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)，、二(er)(er)氧(yang)(yang)(yang)(yang)化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)鉿靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)，二(er)(er)硼化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)鈦(tai)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)，二(er)(er)硼化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)鋯靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)，三氧(yang)(yang)(yang)(yang)化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)鎢靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)，三氧(yang)(yang)(yang)(yang)化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)二(er)(er)鋁靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)五(wu)氧(yang)(yang)(yang)(yang)化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)二(er)(er)鉭，五(wu)氧(yang)(yang)(yang)(yang)化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)二(er)(er)鈮(ni)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、氟化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)鎂靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、氟化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)釔靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、硒化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)鋅(xin)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、氮化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)鋁靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)，氮化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)硅(gui)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)，氮化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)硼靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)，氮化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)鈦(tai)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)，碳化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)硅(gui)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)，鈮(ni)酸鋰靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、鈦(tai)酸鐠(pu)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、鈦(tai)酸鋇靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、鈦(tai)酸鑭靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、氧(yang)(yang)(yang)(yang)化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)鎳靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、濺射靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)材等。
（3）合金靶材
鐵(tie)鈷靶(ba)FeCo、鋁(lv)硅靶(ba)AlSi、鈦(tai)硅靶(ba)TiSi、鉻硅靶(ba)CrSi、鋅(xin)鋁(lv)靶(ba)ZnAl、鈦(tai)鋅(xin)靶(ba)材TiZn、鈦(tai)鋁(lv)靶(ba)TiAl、鈦(tai)鋯靶(ba)TiZr、鈦(tai)硅靶(ba)TiSi、鈦(tai)鎳(nie)(nie)靶(ba)TiNi、鎳(nie)(nie)鉻靶(ba)NiCr、鎳(nie)(nie)鋁(lv)靶(ba)NiAl、鎳(nie)(nie)釩靶(ba)NiV、鎳(nie)(nie)鐵(tie)靶(ba)NiFe等(deng)。
2、根據不同應用方向劃分
（1）半導體關聯靶材
電極、布線薄膜：鋁(lv)靶(ba)材(cai)(cai)，銅靶(ba)材(cai)(cai)，金靶(ba)材(cai)(cai)，銀靶(ba)材(cai)(cai)，鈀靶(ba)材(cai)(cai)，鉑靶(ba)材(cai)(cai)，鋁(lv)硅合(he)金靶(ba)材(cai)(cai)，鋁(lv)硅銅合(he)金靶(ba)材(cai)(cai)等。
儲存器(qi)電極薄膜(mo)：鉬(mu)靶材(cai)，鎢(wu)靶材(cai)，鈦靶材(cai)等。
粘附薄(bo)膜：鎢(wu)靶材(cai)，鈦(tai)靶材(cai)等。
電容器絕緣膜薄膜：鋯鈦酸(suan)鉛靶(ba)材等。
（2）磁記錄靶材
垂直磁記錄(lu)薄膜：鈷鉻合(he)金靶材等。
硬(ying)盤用薄膜(mo)：鈷鉻(ge)鉭合(he)金(jin)(jin)靶材，鈷鉻(ge)鉑(bo)合(he)金(jin)(jin)靶材，鈷鉻(ge)鉭鉑(bo)合(he)金(jin)(jin)靶材等(deng)。
薄膜磁頭(tou)：鈷鉭鉻合(he)金靶(ba)(ba)材，鈷鉻鋯(gao)合(he)金靶(ba)(ba)材等。
人工晶體(ti)薄膜：鈷(gu)鉑合金靶(ba)(ba)材，鈷(gu)鈀合金靶(ba)(ba)材等(deng)。
（3）光記錄靶材
相變光盤記(ji)錄薄膜：硒(xi)化碲靶材(cai)，硒(xi)化銻(ti)靶材(cai)，鍺銻(ti)碲合金靶材(cai)，鍺碲合金靶材(cai)等。
磁光盤記錄(lu)薄(bo)膜：鏑鐵鈷(gu)合金靶(ba)(ba)材，鋱(te)鏑鐵合金靶(ba)(ba)材，鋱(te)鐵鈷(gu)合金靶(ba)(ba)材，氧(yang)化(hua)鋁靶(ba)(ba)材，氧(yang)化(hua)鎂(mei)靶(ba)(ba)材，氮(dan)化(hua)硅(gui)靶(ba)(ba)材等。
四、靶材的性能和指標
靶材(cai)制約著濺(jian)鍍薄膜的物理(li)，力學性能，影(ying)響(xiang)鍍膜質量，因而要求(qiu)靶材(cai)的制備應滿(man)足(zu)以下要求(qiu)：
1、純度：要求雜質含量低純度高，靶材的(de)(de)純(chun)度影響(xiang)薄(bo)膜(mo)的(de)(de)均勻性(xing)(xing)，以純(chun)Al靶(ba)為例，純(chun)度越高，濺射Al膜(mo)的(de)(de)耐蝕性(xing)(xing)及(ji)電學、光學性(xing)(xing)能越好(hao)。不(bu)過不(bu)同用(yong)途的(de)(de)靶(ba)材對(dui)純(chun)度要(yao)求(qiu)也不(bu)同，一(yi)般工業用(yong)靶(ba)材純(chun)度要(yao)求(qiu)不(bu)高，但就半導體、顯示器件等領(ling)域用(yong)靶(ba)材對(dui)純(chun)度要(yao)求(qiu)是十(shi)分(fen)嚴(yan)格的(de)(de)，磁性(xing)(xing)薄(bo)膜(mo)用(yong)靶(ba)材對(dui)純(chun)度的(de)(de)要(yao)求(qiu)一(yi)般為99.9%以上，ITO中的(de)(de)氧化(hua)銦以及(ji)氧化(hua)錫的(de)(de)純(chun)度則要(yao)求(qiu)不(bu)低于99.99%。
2、雜質含(han)量：靶材作為(wei)濺射(she)中的(de)陰極源，固體中的(de)雜質和氣孔中的(de)O2和H2O是沉積薄膜的(de)主要污染源，不同用途的(de)靶材對(dui)單個雜質含(han)量的(de)要求也不同，如：半導體電極布線用的(de)W，Mo，Ti等靶材對(dui)U，Th等放(fang)射(she)性(xing)元素的(de)含(han)量要求低(di)于3*10-9，光(guang)盤反射(she)膜用的(de)Al合金靶材則要求O2的(de)含(han)量低(di)于2*10-4。
3、高(gao)(gao)(gao)致密度(du)(du)(du)：為了減少靶材(cai)(cai)中的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)氣孔，提(ti)(ti)高(gao)(gao)(gao)薄(bo)膜(mo)(mo)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)性(xing)(xing)能一(yi)(yi)般(ban)要求靶材(cai)(cai)具有(you)較高(gao)(gao)(gao)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)致密度(du)(du)(du)，靶材(cai)(cai)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)致密度(du)(du)(du)不僅(jin)影響(xiang)濺射(she)時的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)沉積速率(lv)、濺射(she)膜(mo)(mo)粒(li)子的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)密度(du)(du)(du)和放電(dian)現象等，還影響(xiang)濺射(she)薄(bo)膜(mo)(mo)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)電(dian)學和光學性(xing)(xing)能。致密性(xing)(xing)越好，濺射(she)膜(mo)(mo)粒(li)子的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)密度(du)(du)(du)越低(di)，放電(dian)現象越弱。高(gao)(gao)(gao)致密度(du)(du)(du)靶材(cai)(cai)具有(you)導(dao)(dao)電(dian)、導(dao)(dao)熱性(xing)(xing)好，強度(du)(du)(du)高(gao)(gao)(gao)等優(you)點，使用(yong)這種靶材(cai)(cai)鍍膜(mo)(mo)，濺射(she)功率(lv)小，成膜(mo)(mo)速率(lv)高(gao)(gao)(gao)，薄(bo)膜(mo)(mo)不易開裂，靶材(cai)(cai)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)使用(yong)壽命長(chang)，且濺鍍薄(bo)膜(mo)(mo)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)電(dian)阻率(lv)低(di)，透(tou)光率(lv)高(gao)(gao)(gao)。靶材(cai)(cai)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)致密度(du)(du)(du)主(zhu)要取決于制備(bei)工藝。一(yi)(yi)般(ban)而言，鑄造(zao)靶材(cai)(cai)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)致密度(du)(du)(du)高(gao)(gao)(gao)而燒(shao)(shao)結靶材(cai)(cai)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)致密度(du)(du)(du)相對較低(di)，因此提(ti)(ti)高(gao)(gao)(gao)靶材(cai)(cai)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)致密度(du)(du)(du)是(shi)燒(shao)(shao)結制備(bei)靶材(cai)(cai)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)技術(shu)關(guan)鍵(jian)之一(yi)(yi)。
4、成分(fen)與組織結構均(jun)勻，靶材(cai)(cai)成分(fen)均(jun)勻是鍍膜質(zhi)量(liang)穩定的重要保(bao)證，尤其是對于復相(xiang)結構的合(he)金(jin)靶材(cai)(cai)和混合(he)靶材(cai)(cai)。如(ru)ITO，為了(le)保(bao)證膜質(zhi)量(liang)，要求靶中In2O3-SnO2組成均(jun)勻，都為93：7或91：9（分(fen)子比）。
5、晶(jing)粒(li)尺(chi)寸細小，靶(ba)材的(de)晶(jing)粒(li)尺(chi)寸越細小，濺(jian)(jian)鍍(du)薄膜的(de)厚度(du)分布越均勻，濺(jian)(jian)射速率(lv)越快。
