一、ITO濺射靶材的制作方法

1、真空熱壓

真空熱壓利用熱能和機械能對ITO粉體進行致密化，可生產出密度為91%~96%的高密度ITO陶瓷靶材。該方法可以輕松獲得接近預期密度且孔隙率接近于零的ITO靶材。但受設備和模具尺寸的限制，真空熱壓在制備大尺寸濺射靶材方面優勢較小。

2、熱等靜壓

熱等靜壓(ya)（HIP）通過在壓(ya)力下燒(shao)結或在高(gao)溫(wen)下加壓(ya)來制備ITO濺射靶。與真空熱壓(ya)類似(si)，HIP在加熱和加壓(ya)狀態(tai)下可(ke)以獲得(de)高(gao)密(mi)度(du)（幾(ji)乎是理論密(mi)度(du)）和優異(yi)的物理和機械(xie)性(xing)能的產(chan)品(pin)。但也受(shou)設備壓(ya)力和氣缸尺寸的限(xian)制。

3、常溫燒結

室(shi)溫燒(shao)結是先(xian)通過漿料(liao)澆注(zhu)或預壓制(zhi)備(bei)高密度(du)靶(ba)材(cai)預制(zhi)件(jian)，然后(hou)在(zai)(zai)一定氣氛和溫度(du)下(xia)燒(shao)結得到ITO靶(ba)材(cai)。其(qi)最大(da)的(de)優勢在(zai)(zai)于能夠生產大(da)尺寸的(de)濺射(she)靶(ba)材(cai)。但與(yu)其(qi)他燒(shao)結方法相(xiang)比，這種方法制(zhi)成的(de)靶(ba)材(cai)純度(du)較(jiao)低(di)。

4、冷等靜壓

冷等靜壓（CIP）在(zai)常溫下(xia)以橡膠(jiao)或塑料為覆膜材料，以液(ye)體為壓力介(jie)質傳遞超(chao)高(gao)(gao)壓。CIP還可(ke)以制(zhi)備(bei)更大(da)尺寸(cun)的ITO濺射靶材。而且價格便宜，適(shi)合大(da)批(pi)量生產。但CIP要求(qiu)材料在(zai)0.1~0.9MPa的純氧環境中(zhong)經過1500~1600°C的高(gao)(gao)溫燒結，具有較高(gao)(gao)的風險。

該圖片由注冊用戶"天空之城"提供，版權聲明反饋

二、ITO濺射靶材生產難點

1、粉末制備

粉末(mo)冶金最(zui)核心的競爭(zheng)力就是粉體，能夠獨(du)立(li)生產高品質穩定的粉體的公司，會在未來占有一(yi)席之地。

2、大尺寸燒結工藝

ITO靶材的另(ling)一個難點(dian)就是燒(shao)(shao)(shao)結(jie)(jie)工藝(yi)，精(jing)準的燒(shao)(shao)(shao)結(jie)(jie)工藝(yi)是燒(shao)(shao)(shao)結(jie)(jie)高品質靶材的關鍵。燒(shao)(shao)(shao)結(jie)(jie)工藝(yi)細(xi)分為真空熱(re)壓(ya)法(fa)、熱(re)等(deng)靜壓(ya)法(fa)、常壓(ya)燒(shao)(shao)(shao)結(jie)(jie)法(fa)。目前高端顯示(shi)器用鍍膜靶材主(zhu)要采用常壓(ya)燒(shao)(shao)(shao)結(jie)(jie)法(fa)，性價比高。

3、成本投入較大

ITO生產中需(xu)要使用(yong)非(fei)(fei)常(chang)多的(de)(de)大型設備(bei)(bei)，如(ru)冷壓機，大型模壓機，燒(shao)結(jie)爐，加工設備(bei)(bei)及綁(bang)定設備(bei)(bei)，每一項(xiang)的(de)(de)投入都非(fei)(fei)常(chang)大。整廠(chang)的(de)(de)設備(bei)(bei)投入預計(ji)在5000萬以上(shang)（年產50噸），且因為(wei)是能耗(hao)大戶，日常(chang)的(de)(de)能源消耗(hao)也(ye)是非(fei)(fei)常(chang)可觀的(de)(de)，運(yun)營維(wei)護成本也(ye)比較高。

4、產品的驗證

如何能(neng)夠自主的(de)(de)驗證(zheng)(zheng)產品(pin)是(shi)否符(fu)合客(ke)戶的(de)(de)使用需求，是(shi)產品(pin)能(neng)否一(yi)次通過(guo)客(ke)戶驗證(zheng)(zheng)并且(qie)順利導入生產的(de)(de)關鍵因素，所以企業(ye)自己配(pei)套綁定檢(jian)測設(she)備及鍍膜機就是(shi)保證(zheng)(zheng)。