一、mos管的vgs電壓是什么意思
Vgs是柵極(ji)相對于源極(ji)的(de)電壓。
與NMOS一樣,導通(tong)的PMOS的工作區域也分為(wei)非(fei)飽和區,臨界飽和點和飽和區。當然(ran),不論NMOS還是PMOS,當未形(xing)成反型溝道時,都處于截(jie)止區,其電(dian)壓條件是:|VGS|>|VTP(PMOS)|,值(zhi)得注意(yi)的是,PMOS的VGS和VTP都是負值(zhi)。
PMOS集成電(dian)路是一種(zhong)適合在(zai)低速、低頻領域內應(ying)用的(de)(de)器件。PMOS集成電(dian)路采用-24V電(dian)壓供(gong)電(dian)。MOS場(chang)效應(ying)晶體管具有(you)很高的(de)(de)輸入阻抗,在(zai)電(dian)路中便(bian)于直接耦合,容(rong)易(yi)制成規模(mo)大的(de)(de)集成電(dian)路。
二、MOS管各項參數分別是什么含義
1、開啟電壓VT
開啟電(dian)壓(ya)(又稱閾(yu)值(zhi)(zhi)電(dian)壓(ya)):使(shi)得源極S和漏極D之間開始形(xing)成導電(dian)溝道所需的(de)柵極電(dian)壓(ya),標準(zhun)的(de)N溝道MOS管,VT約為3~6V,通過(guo)工藝上的(de)改(gai)進,可(ke)以使(shi)MOS管的(de)VT值(zhi)(zhi)降到2~3V。
2、直流輸入電阻RGS
即在柵(zha)源極之(zhi)間加的電(dian)壓(ya)與柵(zha)極電(dian)流(liu)(liu)之(zhi)比,這一特性有時以流(liu)(liu)過柵(zha)極的柵(zha)流(liu)(liu)表示(shi),MOS管的RGS可以很容易地(di)超過1010Ω。
3、漏源擊穿電壓BVDS
在(zai)VGS=0(增(zeng)強型)的(de)(de)條件下,在(zai)增(zeng)加漏(lou)源電(dian)壓過程(cheng)中使(shi)ID開始劇增(zeng)時(shi)的(de)(de)VDS稱(cheng)為(wei)漏(lou)源擊(ji)穿(chuan)電(dian)壓BVDS,ID劇增(zeng)的(de)(de)原因有下列兩個方面:(1)漏(lou)極附近耗(hao)盡(jin)層的(de)(de)雪崩(beng)擊(ji)穿(chuan),(2)漏(lou)源極間的(de)(de)穿(chuan)通擊(ji)穿(chuan),有些MOS管(guan)中,其溝道長度較短,不斷增(zeng)加VDS會使(shi)漏(lou)區的(de)(de)耗(hao)盡(jin)層一直(zhi)(zhi)擴展到源區,使(shi)溝道長度為(wei)零(ling),即(ji)產(chan)生漏(lou)源間的(de)(de)穿(chuan)通,穿(chuan)通后,源區中的(de)(de)多數載流子,將直(zhi)(zhi)接受耗(hao)盡(jin)層電(dian)場的(de)(de)吸引(yin),到達漏(lou)區,產(chan)生大(da)的(de)(de)ID。
4、柵源擊穿電壓BVGS
在增加柵(zha)源電壓過程中(zhong),使柵(zha)極電流IG由(you)零開始劇(ju)增時的VGS,稱為柵(zha)源擊穿電壓BVGS。
5、低頻跨導gm
在(zai)VDS為某一(yi)(yi)固定(ding)數值的條件下,漏(lou)極(ji)電流的微變(bian)(bian)量和(he)引起(qi)這個(ge)變(bian)(bian)化的柵(zha)源電壓(ya)微變(bian)(bian)量之比(bi)稱(cheng)為跨導,gm反(fan)映(ying)了柵(zha)源電壓(ya)對漏(lou)極(ji)電流的控(kong)制能力,是表(biao)征MOS管放大能力的一(yi)(yi)個(ge)重要參數,一(yi)(yi)般在(zai)十分之幾至幾mA/V的范(fan)圍(wei)內(nei)。
6、導通電阻RON
導通(tong)電(dian)(dian)阻RON說明了VDS對(dui)ID的(de)影響,是漏極特(te)性某一(yi)點切線的(de)斜率(lv)的(de)倒數(shu),在(zai)飽和區(qu),ID幾(ji)(ji)乎不隨VDS改變(bian),RON的(de)數(shu)值很大(da),一(yi)般(ban)在(zai)幾(ji)(ji)十千歐到幾(ji)(ji)百(bai)千歐之間(jian),由于在(zai)數(shu)字電(dian)(dian)路(lu)中,MOS管導通(tong)時經(jing)常工作在(zai)VDS=0的(de)狀態(tai)下,所(suo)以這時的(de)導通(tong)電(dian)(dian)阻RON可用原點的(de)RON來近(jin)似,對(dui)一(yi)般(ban)的(de)MOS管而言,RON的(de)數(shu)值在(zai)幾(ji)(ji)百(bai)歐以內。
7、極間電容
三個電極(ji)之(zhi)間都存(cun)在(zai)著極(ji)間電容:柵源電容CGS、柵漏(lou)(lou)電容CGD和漏(lou)(lou)源電容CDS,CGS和CGD約為1~3pF,CDS約在(zai)0.1~1pF之(zhi)間。
8、低頻噪聲系數NF
噪聲(sheng)是(shi)由管子(zi)內(nei)部(bu)載流子(zi)運動(dong)的(de)(de)(de)不(bu)規(gui)則性(xing)所(suo)引起的(de)(de)(de),由于它(ta)的(de)(de)(de)存(cun)在,就(jiu)使一個放(fang)大器即(ji)便在沒有信(xin)號輸人時,在輸出(chu)端也(ye)出(chu)現(xian)不(bu)規(gui)則的(de)(de)(de)電壓或電流變化,噪聲(sheng)性(xing)能的(de)(de)(de)大小(xiao)通常用噪聲(sheng)系數(shu)NF來(lai)表示,它(ta)的(de)(de)(de)單位(wei)為分貝(dB),這個數(shu)值越小(xiao),代表管子(zi)所(suo)產生的(de)(de)(de)噪聲(sheng)越小(xiao),低(di)頻(pin)噪聲(sheng)系數(shu)是(shi)在低(di)頻(pin)范圍(wei)內(nei)測出(chu)的(de)(de)(de)噪聲(sheng)系數(shu),場效應管的(de)(de)(de)噪聲(sheng)系數(shu)約為幾個分貝,它(ta)比(bi)雙極(ji)性(xing)三極(ji)管的(de)(de)(de)要(yao)小(xiao)。