一、KrF光刻膠是什么

光刻膠根(gen)據(ju)不(bu)同的(de)(de)曝光(guang)(guang)(guang)(guang)光(guang)(guang)(guang)(guang)源(yuan)分為(wei)不(bu)同的(de)(de)類型，曝光(guang)(guang)(guang)(guang)光(guang)(guang)(guang)(guang)源(yuan)從寬(kuan)譜(pu)紫外線(xian)發展到I線(xian)（365nm）、KrF線(xian)（248nm）、ArF線(xian)（193nm）以(yi)及EUV（13.5nm）光(guang)(guang)(guang)(guang)源(yuan)，而(er)不(bu)同的(de)(de)光(guang)(guang)(guang)(guang)源(yuan)要求使用(yong)(yong)不(bu)同的(de)(de)光(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)膠(jiao)。KrF光(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)膠(jiao)就是(shi)運用(yong)(yong)KrF（248nm）曝光(guang)(guang)(guang)(guang)光(guang)(guang)(guang)(guang)源(yuan)時(shi)所需要的(de)(de)光(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)膠(jiao)。KrF光(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)膠(jiao)主要應用(yong)(yong)于(yu)0.13m以(yi)上線(xian)寬(kuan)，包含離子注入層，抗刻(ke)(ke)蝕層等多種工藝中(zhong)。

二、arf光刻膠是什么

ArF光(guang)刻(ke)(ke)膠(jiao)，是(shi)半導(dao)體(ti)光(guang)刻(ke)(ke)膠(jiao)的(de)一種，屬于(yu)高端(duan)光(guang)刻(ke)(ke)膠(jiao)產品(pin)(pin)(pin)，用來制造12英寸(cun)大硅片（硅晶圓）。在(zai)光(guang)刻(ke)(ke)膠(jiao)產品(pin)(pin)(pin)中，半導(dao)體(ti)光(guang)刻(ke)(ke)膠(jiao)技術壁壘(lei)最高；在(zai)半導(dao)體(ti)光(guang)刻(ke)(ke)膠(jiao)產品(pin)(pin)(pin)中，ArF光(guang)刻(ke)(ke)膠(jiao)是(shi)技術含量最高的(de)產品(pin)(pin)(pin)之一。ArF光(guang)刻(ke)(ke)膠(jiao)是(shi)第四代光(guang)刻(ke)(ke)膠(jiao)，行業(ye)進入技術壁壘(lei)高，全球(qiu)量產企業(ye)數量少。

三、krf光刻膠和arf光刻膠區別

krF光刻膠與ArF光刻膠都主要用于半導體領域，二者最大區別是光刻膠的光(guang)源波長(chang)不同(tong)，其中(zhong)krf波長(chang)為(wei)248nm，arf波長(chang)為(wei)193nm，arf光(guang)刻(ke)(ke)膠(jiao)的分(fen)辨率更好，技術含量更高(gao)。arf和krf都(dou)屬于(yu)深紫外(wai)光(guang)范疇，也(ye)都(dou)是duv光(guang)刻(ke)(ke)機應用(yong)光(guang)源，但是光(guang)源技術上相差一代(dai)。另(ling)外(wai)，由于(yu)光(guang)源波長(chang)不同(tong)，krf光(guang)刻(ke)(ke)膠(jiao)和arf光(guang)刻(ke)(ke)膠(jiao)也(ye)不能通用(yong)。