一、KrF光刻膠是什么

光刻膠根據不(bu)同(tong)(tong)(tong)的(de)曝光(guang)(guang)(guang)光(guang)(guang)(guang)源(yuan)分為不(bu)同(tong)(tong)(tong)的(de)類(lei)型，曝光(guang)(guang)(guang)光(guang)(guang)(guang)源(yuan)從寬譜紫外線(xian)發(fa)展到I線(xian)（365nm）、KrF線(xian)（248nm）、ArF線(xian)（193nm）以及EUV（13.5nm）光(guang)(guang)(guang)源(yuan)，而不(bu)同(tong)(tong)(tong)的(de)光(guang)(guang)(guang)源(yuan)要求使用(yong)(yong)不(bu)同(tong)(tong)(tong)的(de)光(guang)(guang)(guang)刻膠(jiao)(jiao)。KrF光(guang)(guang)(guang)刻膠(jiao)(jiao)就是運用(yong)(yong)KrF（248nm）曝光(guang)(guang)(guang)光(guang)(guang)(guang)源(yuan)時所需要的(de)光(guang)(guang)(guang)刻膠(jiao)(jiao)。KrF光(guang)(guang)(guang)刻膠(jiao)(jiao)主要應用(yong)(yong)于0.13m以上線(xian)寬，包含離子注入層(ceng)，抗(kang)刻蝕(shi)層(ceng)等(deng)多種工藝中。

二、arf光刻膠是什么

ArF光(guang)刻(ke)膠(jiao)(jiao)(jiao)，是(shi)半導(dao)體(ti)光(guang)刻(ke)膠(jiao)(jiao)(jiao)的一種，屬于高端(duan)光(guang)刻(ke)膠(jiao)(jiao)(jiao)產(chan)品(pin)(pin)，用來制(zhi)造12英寸大硅片（硅晶(jing)圓）。在(zai)光(guang)刻(ke)膠(jiao)(jiao)(jiao)產(chan)品(pin)(pin)中，半導(dao)體(ti)光(guang)刻(ke)膠(jiao)(jiao)(jiao)技術壁壘最(zui)高；在(zai)半導(dao)體(ti)光(guang)刻(ke)膠(jiao)(jiao)(jiao)產(chan)品(pin)(pin)中，ArF光(guang)刻(ke)膠(jiao)(jiao)(jiao)是(shi)技術含量最(zui)高的產(chan)品(pin)(pin)之一。ArF光(guang)刻(ke)膠(jiao)(jiao)(jiao)是(shi)第四代光(guang)刻(ke)膠(jiao)(jiao)(jiao)，行業(ye)進入技術壁壘高，全球量產(chan)企(qi)業(ye)數(shu)量少。

三、krf光刻膠和arf光刻膠區別

krF光刻膠與ArF光刻膠都主要用于半導體領域，二者最大區別是光刻膠的光(guang)(guang)源(yuan)波(bo)長(chang)不同，其中krf波(bo)長(chang)為(wei)248nm，arf波(bo)長(chang)為(wei)193nm，arf光(guang)(guang)刻(ke)(ke)膠(jiao)的分(fen)辨率更(geng)好，技術含(han)量(liang)更(geng)高。arf和krf都屬(shu)于深紫外光(guang)(guang)范疇，也都是duv光(guang)(guang)刻(ke)(ke)機(ji)應用光(guang)(guang)源(yuan)，但是光(guang)(guang)源(yuan)技術上(shang)相差一代。另外，由于光(guang)(guang)源(yuan)波(bo)長(chang)不同，krf光(guang)(guang)刻(ke)(ke)膠(jiao)和arf光(guang)(guang)刻(ke)(ke)膠(jiao)也不能通用。