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光刻膠怎么保存 光刻膠使用和儲存注意事項

本文章由注冊用戶 天空之城 上傳提供 2024-04-18 評論 0
摘要:光刻膠在半導體領域應用廣泛,是半導體產業生產最關鍵的材料之一。光刻膠是光刻過程最重要的耗材,光刻膠的質量對光刻工藝有著重要影響,所以在保存光刻膠時要特別注意避光、防潮、低溫。下面來了解下光刻膠使用和儲存注意事項。

一、光刻膠怎么保存

1、溫度:光刻膠應存放在低溫環境下,一般建議存放在-20℃以下的冰箱中,避免光刻膠受(shou)熱變質。同(tong)時,光刻膠在存放和使用過程中應(ying)避免受(shou)到溫(wen)度變化(hua)的影響,以免影響其性能和質量。

2、光照:光刻膠應避免直接暴露在強光下,以免光刻膠受到光照而失去靈敏度。因此,在存放和使用光(guang)刻膠(jiao)時,應盡量避免光(guang)照,可以使用黑色遮光(guang)袋或黑色遮光(guang)箱進行(xing)保護。

3、濕度:光刻膠應存放在干燥的環境中,避免受潮。因為潮濕的環境會影響光刻膠的性能和質(zhi)量,甚至會(hui)導(dao)致(zhi)光刻膠失效(xiao)。因此,在存放(fang)和使用光刻膠時,應盡量避免受(shou)潮,可(ke)以(yi)使用密封(feng)袋(dai)或密封(feng)容器(qi)進行保護(hu)。

4、震動:光刻膠應避免受到劇烈的震動和振動,以免影響其性能和質量。因此,在存放和使(shi)用(yong)光(guang)刻膠時,應盡量避免受到(dao)震動(dong)(dong)和振動(dong)(dong),可以(yi)使(shi)用(yong)泡沫(mo)箱或其他(ta)緩沖材料(liao)進行保護。

二、光刻膠使用和儲存注意事項

1、保存

光(guang)刻膠(jiao)中的光(guang)敏組分是(shi)非(fei)常脆弱的,除了有溫度(du)的要求外,對于儲存時間(jian)和外包(bao)裝材(cai)料有很嚴格的要求。一(yi)般使(shi)用棕色的玻璃瓶包(bao)裝,再套上黑(hei)色塑料袋。

光刻膠的保存期限一般為6個月至1年左右,具體時間取決于光刻膠的種類和保存條件。因此,在存(cun)(cun)放和使用(yong)光(guang)(guang)刻(ke)膠時,應(ying)注(zhu)意(yi)光(guang)(guang)刻(ke)膠的保(bao)存(cun)(cun)期(qi)限(xian),避免(mian)使用(yong)過(guo)期(qi)光(guang)(guang)刻(ke)膠。

2、光刻膠的涂布溫度

光刻膠涂布溫度一般要和室溫相同,原因是與室溫相同可以大減少光刻膠的溫度波動,從而減少工藝波動。而凈化間室溫一般是23度,所以光刻膠涂(tu)布溫(wen)度一般為23度。一般在旋涂的情況下(xia),高(gao)于會中(zhong)間(jian)厚,低(di)于會中(zhong)間(jian)薄。同時涂布前,wafer也需(xu)要(yao)冷(leng)板,保證每次涂布wafer的溫度一致。

3、涂布時濕度的控制

現在(zai)(zai)光(guang)刻(ke)(ke)膠(jiao)(jiao)(jiao)涂覆(fu)工段(duan)一般都(dou)與(yu)自動純(chun)水清洗(xi)線連(lian)在(zai)(zai)一起,很多時候都(dou)只(zhi)考慮此段(duan)的(de)(de)(de)潔凈度,而疏忽了該段(duan)的(de)(de)(de)濕(shi)度控制,使得光(guang)刻(ke)(ke)膠(jiao)(jiao)(jiao)涂覆(fu)的(de)(de)(de)良品(pin)率比較(jiao)低,在(zai)(zai)顯影時光(guang)刻(ke)(ke)膠(jiao)(jiao)(jiao)脫(tuo)落嚴重,起不到保護阻蝕的(de)(de)(de)效果。

4、涂膠后產品的放置時間的控制

在(zai)生產(chan)設備出(chu)現故障(zhang)等(deng)特殊情況下(xia),涂完光刻(ke)膠的(de)產(chan)品需(xu)要保留(liu),保留(liu)的(de)時間(jian)一般不(bu)(bu)超過8小時,曝(pu)光前如(ru)已被感(gan)(即膠膜已失效),不(bu)(bu)能作為正品,需(xu)返(fan)工處(chu)理。

5、前烘溫度和時間的控制

前烘(hong)(hong)(hong)的(de)目(mu)的(de)是促使(shi)膠(jiao)(jiao)(jiao)(jiao)(jiao)膜(mo)內溶劑充分揮發,使(shi)膠(jiao)(jiao)(jiao)(jiao)(jiao)膜(mo)干(gan)燥以增強膠(jiao)(jiao)(jiao)(jiao)(jiao)膜(mo)與基板表面的(de)粘(zhan)附性和膠(jiao)(jiao)(jiao)(jiao)(jiao)膜(mo)的(de)耐磨性。曝(pu)光(guang)時,掩(yan)模版與光(guang)刻膠(jiao)(jiao)(jiao)(jiao)(jiao)即(ji)使(shi)接觸也不會(hui)損傷(shang)光(guang)刻膠(jiao)(jiao)(jiao)(jiao)(jiao)膜(mo)和沾污掩(yan)模膜(mo),同(tong)(tong)時只有光(guang)刻膠(jiao)(jiao)(jiao)(jiao)(jiao)干(gan)凈、在(zai)曝(pu)光(guang)時,光(guang)刻膠(jiao)(jiao)(jiao)(jiao)(jiao)才(cai)能充分地和光(guang)發生反應。同(tong)(tong)時注意前烘(hong)(hong)(hong)的(de)溫度不能過(guo)高(gao),過(guo)高(gao)會(hui)造成光(guang)刻膠(jiao)(jiao)(jiao)(jiao)(jiao)膜(mo)的(de)碳化,從而影響光(guang)刻效果。一般情況下,前烘(hong)(hong)(hong)的(de)溫度取值比后烘(hong)(hong)(hong)堅膜(mo)溫度稍低一些,時間稍短一些。

6、顯影條件的控制

顯影時必須控制好顯影液的溫度、濃度及顯影的時間。在一定濃度下的顯影液中,溫度和時間直接影響的速度,若顯影時間不足或溫度低,則感光部位的光刻膠不能夠(gou)完全溶解,留有(you)一層光(guang)刻膠,在刻蝕時(shi),這層膠會(hui)對膜(mo)面進行保護作用(yong),使應該刻蝕的膜(mo)留下(xia)來(lai)。若(ruo)顯影時(shi)間(jian)過長或溫度過高,顯影時(shi)未被曝光(guang)部位(wei)的光(guang)刻膠也會(hui)被從邊(bian)緣里鉆溶。使圖(tu)案的邊(bian)緣變(bian)差,再(zai)嚴重會(hui)使光(guang)刻膠大量脫落,形(xing)成(cheng)脫膠。

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