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光刻膠怎么保存 光刻膠使用和儲存注意事項

本文章由注冊用戶 天空之城 上傳提供 2024-04-18 評論 0
摘要:光刻膠在半導體領域應用廣泛,是半導體產業生產最關鍵的材料之一。光刻膠是光刻過程最重要的耗材,光刻膠的質量對光刻工藝有著重要影響,所以在保存光刻膠時要特別注意避光、防潮、低溫。下面來了解下光刻膠使用和儲存注意事項。

一、光刻膠怎么保存

1、溫度:光刻膠應存放在低溫環境下,一般建議存放在-20℃以下的冰箱中,避免光刻膠受熱變質。同時,光刻膠在存放和使用過程中應避免(mian)受到溫度變化的(de)影響,以免(mian)影響其性能和質(zhi)量。

2、光照:光刻膠應避免直接暴露在強光下,以免光刻膠受到光照而失去靈敏度。因此,在存(cun)放和使(shi)用(yong)(yong)光(guang)(guang)刻膠時,應盡(jin)量避(bi)免光(guang)(guang)照,可以使(shi)用(yong)(yong)黑(hei)色遮光(guang)(guang)袋(dai)或黑(hei)色遮光(guang)(guang)箱進(jin)行保護。

3、濕度:光刻膠應存放在干燥的環境中,避免受潮。因為潮濕的環境會影響光刻膠的性能和(he)(he)質量,甚至會導(dao)致(zhi)光刻膠失效。因此,在存(cun)放和(he)(he)使(shi)用光刻膠時,應盡(jin)量避免受潮,可以使用密(mi)封袋或(huo)密(mi)封容器進行保(bao)護。

4、震動:光刻膠應避免受到劇烈的震動和振動,以免影響其性能和質量。因此,在存放和使用光刻膠時(shi),應盡量(liang)避免(mian)受到震(zhen)動和(he)振動,可以使用泡沫箱或其(qi)他緩(huan)沖材料進行保護。

二、光刻膠使用和儲存注意事項

1、保存

光刻膠(jiao)中的光敏組分是非常脆弱的,除(chu)了有溫度的要(yao)求外,對于儲(chu)存時間和外包裝(zhuang)材(cai)料(liao)(liao)有很(hen)嚴(yan)格的要(yao)求。一般使用(yong)棕色(se)的玻(bo)璃(li)瓶包裝(zhuang),再套上黑色(se)塑料(liao)(liao)袋。

光刻膠的保存期限一般為6個月至1年左右,具體時間取決于光刻膠的種類和保存條件。因此(ci),在(zai)存(cun)放和使(shi)用光刻(ke)膠時,應注意光刻(ke)膠的保(bao)存(cun)期(qi)限,避免使(shi)用過期(qi)光刻(ke)膠。

2、光刻膠的涂布溫度

光刻膠涂布溫度一般要和室溫相同,原因是與室溫相同可以大減少光刻膠的溫度波動,從而減少工藝波動。而凈化間室溫一般是23度,所以光刻膠涂布溫度一般為(wei)23度(du)。一般在旋涂的(de)情況下,高于會中間厚,低于會中間薄。同時涂布前(qian),wafer也(ye)需要冷板,保證每(mei)次涂布wafer的(de)溫度(du)一致。

3、涂布時濕度的控制

現在(zai)光(guang)刻膠(jiao)涂覆工(gong)段(duan)一(yi)般都(dou)與(yu)自動純水清洗線連(lian)在(zai)一(yi)起,很多時候都(dou)只考慮此段(duan)的(de)潔凈度,而疏(shu)忽了該(gai)段(duan)的(de)濕(shi)度控制(zhi),使得光(guang)刻膠(jiao)涂覆的(de)良品率比(bi)較(jiao)低(di),在(zai)顯影時光(guang)刻膠(jiao)脫(tuo)落嚴重,起不到保(bao)護(hu)阻蝕的(de)效果。

4、涂膠后產品的放置時間的控制

在生產(chan)設備出現故障等特(te)殊情況下(xia),涂(tu)完光(guang)刻(ke)膠的(de)產(chan)品(pin)需要(yao)保留,保留的(de)時間一般不超過8小時,曝光(guang)前如已被感(gan)(即(ji)膠膜已失效),不能作為正品(pin),需返(fan)工處理(li)。

5、前烘溫度和時間的控制

前烘(hong)的(de)(de)(de)目的(de)(de)(de)是促使膠(jiao)(jiao)膜(mo)(mo)(mo)(mo)內溶劑充分揮發(fa),使膠(jiao)(jiao)膜(mo)(mo)(mo)(mo)干燥(zao)以增強膠(jiao)(jiao)膜(mo)(mo)(mo)(mo)與(yu)基板表面的(de)(de)(de)粘附性和膠(jiao)(jiao)膜(mo)(mo)(mo)(mo)的(de)(de)(de)耐磨(mo)性。曝(pu)光(guang)時(shi),掩(yan)模版與(yu)光(guang)刻膠(jiao)(jiao)即使接觸(chu)也不會損傷光(guang)刻膠(jiao)(jiao)膜(mo)(mo)(mo)(mo)和沾污掩(yan)模膜(mo)(mo)(mo)(mo),同(tong)時(shi)只有(you)光(guang)刻膠(jiao)(jiao)干凈(jing)、在(zai)曝(pu)光(guang)時(shi),光(guang)刻膠(jiao)(jiao)才能充分地和光(guang)發(fa)生反應。同(tong)時(shi)注意前烘(hong)的(de)(de)(de)溫(wen)度(du)(du)不能過高,過高會造成(cheng)光(guang)刻膠(jiao)(jiao)膜(mo)(mo)(mo)(mo)的(de)(de)(de)碳化,從而影響光(guang)刻效(xiao)果。一般情況下,前烘(hong)的(de)(de)(de)溫(wen)度(du)(du)取值比后烘(hong)堅膜(mo)(mo)(mo)(mo)溫(wen)度(du)(du)稍低(di)一些(xie),時(shi)間稍短一些(xie)。

6、顯影條件的控制

顯影時必須控制好顯影液的溫度、濃度及顯影的時間。在一定濃度下的顯影液中,溫度和時間直接影響的速度,若顯影時間不足或溫度低,則感光部位的光刻膠不能夠完全溶解,留(liu)有一(yi)層光刻(ke)膠(jiao),在刻(ke)蝕(shi)時,這層膠(jiao)會對膜(mo)(mo)面進行(xing)保護作(zuo)用,使(shi)應(ying)該刻(ke)蝕(shi)的(de)膜(mo)(mo)留(liu)下來。若顯影(ying)時間過長或溫(wen)度過高,顯影(ying)時未被曝光部位的(de)光刻(ke)膠(jiao)也會被從邊緣里(li)鉆溶。使(shi)圖案的(de)邊緣變差,再嚴重會使(shi)光刻(ke)膠(jiao)大量(liang)脫(tuo)落,形成脫(tuo)膠(jiao)。

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