一、光刻膠是什么東西

光刻膠又稱光(guang)(guang)致抗蝕(shi)(shi)劑(ji)，是指通(tong)過紫外光(guang)(guang)、電(dian)子(zi)束(shu)(shu)、離子(zi)束(shu)(shu)、X射線(xian)等的照射或輻射，其溶(rong)解(jie)度(du)發生變(bian)化(hua)的耐蝕(shi)(shi)劑(ji)刻薄膜材料。由感(gan)光(guang)(guang)樹脂、增感(gan)劑(ji)和(he)溶(rong)劑(ji)3種主要成分(fen)組成的對光(guang)(guang)敏感(gan)的混(hun)合液體(ti)。在(zai)光(guang)(guang)刻工藝過程中，用作抗腐蝕(shi)(shi)涂層材料。半導體(ti)材料在(zai)表面(mian)加工時，若采用適(shi)當(dang)的有選擇性的光(guang)(guang)刻膠，可在(zai)表面(mian)上得(de)到所(suo)需(xu)的圖像。

二、光刻膠的作用

光(guang)刻膠(jiao)是(shi)一(yi)大類具(ju)有光(guang)敏(min)化學作(zuo)(zuo)用（或(huo)對電子能量敏(min)感）的高分子聚合物材料，是(shi)轉移(yi)紫(zi)外曝光(guang)或(huo)電子束曝照圖案的媒介。光(guang)刻膠(jiao)的英文名(ming)為(wei)resist，又翻譯(yi)為(wei)抗蝕(shi)劑、光(guang)阻等。光(guang)刻膠(jiao)的作(zuo)(zuo)用就是(shi)作(zuo)(zuo)為(wei)抗刻蝕(shi)層保(bao)護襯(chen)底表面。光(guang)刻膠(jiao)只是(shi)一(yi)種(zhong)形(xing)象的說法(fa)，因為(wei)光(guang)刻膠(jiao)從外觀上(shang)呈現為(wei)膠(jiao)狀(zhuang)液(ye)體(ti)。

光刻膠通常是以薄膜形式均勻覆蓋于基材表面。當紫外光或電子束的照射時，光刻膠材料本身的特性會發生改變，經過顯影液顯影后，曝光的負性光刻膠或未曝光的正性光刻膠將會留在襯底表面，這樣就將設計的微納結構轉移到了光刻膠上，而后續的刻蝕、沉積等工藝，就可進一步將此圖案轉移到光刻膠下面的襯底上，最后再使用除膠劑將光刻膠除去就可以了。