一、光刻膠和光刻機有什么區別

光刻膠和光刻機的區別在于作用不同。光刻膠是一種有機化合物，成分是感光樹脂、增感劑和溶劑，它被紫外光曝光后，在顯影溶液中的溶解度會發生變化。硅片制造中所用的光刻膠以液態涂在硅片表面，而后被干燥成膠膜。光刻膠是(shi)(shi)微電子技(ji)術中微細圖形(xing)加(jia)工的(de)關(guan)鍵材料之(zhi)一(yi)，特別(bie)是(shi)(shi)近(jin)年來大(da)規模(mo)和(he)超大(da)規模(mo)集成電路的(de)發展，更是(shi)(shi)大(da)大(da)促進了光刻膠的(de)研究開發和(he)應(ying)用(yong)。而光刻機是制(zhi)造芯片(pian)的(de)(de)核心(xin)裝(zhuang)備，采用類似照片(pian)沖印的(de)(de)技術，把掩膜版上的(de)(de)精細圖(tu)形通過光線的(de)(de)曝光印制(zhi)到硅(gui)片(pian)上。

二、光刻膠和光刻機的關系

光刻膠是光刻機研發的重要材料，光刻機利(li)用特(te)殊(shu)光(guang)線將集成電路(lu)映射到硅片表面(mian)，并要(yao)避免(mian)在(zai)硅片表面(mian)留下痕跡，需要(yao)在(zai)硅片表面(mian)涂上一層特(te)殊(shu)的(de)物(wu)質(zhi)：光(guang)刻膠。

光(guang)刻機和光(guang)刻膠(jiao)的(de)關系就是：光(guang)刻機在(zai)晶圓上用光(guang)源畫電路圖的(de)時候，不直接畫圖，需要在(zai)晶圓上涂抹一層(ceng)液態的(de)光(guang)刻膠(jiao)，光(guang)刻膠(jiao)干燥后形成(cheng)膠(jiao)膜，光(guang)刻機才開始畫圖作業(ye)。

簡單的說光刻膠是用于保護硅片的，光刻機是用來制作芯片的。光刻膠的性能指標要求極高，如感光的性能、抗蝕性、表面的張力等。目前光刻膠在芯(xin)片、面板、模(mo)擬半導體(ti)、發光(guang)二極管及光(guang)子器件(jian)上都得(de)到了廣泛應用。