一、光刻膠和光刻機有什么區別

光刻膠和光刻機的區別在于作用不同。光刻膠是一種有機化合物，成分是感光樹脂、增感劑和溶劑，它被紫外光曝光后，在顯影溶液中的溶解度會發生變化。硅片制造中所用的光刻膠以液態涂在硅片表面，而后被干燥成膠膜。光(guang)刻(ke)膠是(shi)(shi)微(wei)電(dian)子技術中微(wei)細圖形加工的關鍵材料之一，特別(bie)是(shi)(shi)近年來大(da)規模和(he)超大(da)規模集成(cheng)電(dian)路的發展，更是(shi)(shi)大(da)大(da)促進了光(guang)刻(ke)膠的研究(jiu)開發和(he)應用。而光(guang)刻機是制造(zao)芯片(pian)的核(he)心裝備(bei)，采(cai)用類(lei)似(si)照片(pian)沖印的技術，把掩膜版上的精(jing)細圖形(xing)通過光(guang)線的曝光(guang)印制到(dao)硅片(pian)上。

二、光刻膠和光刻機的關系

光刻膠是光刻機研發的重要材料，光刻機利用特殊光(guang)線將(jiang)集成電(dian)路(lu)映射到(dao)硅(gui)(gui)片(pian)表面，并(bing)要(yao)避免在硅(gui)(gui)片(pian)表面留下(xia)痕跡，需要(yao)在硅(gui)(gui)片(pian)表面涂上一(yi)層特殊的物質：光(guang)刻膠。

光(guang)(guang)刻機(ji)和光(guang)(guang)刻膠的關系就是：光(guang)(guang)刻機(ji)在晶圓上用光(guang)(guang)源畫電路(lu)圖(tu)的時候，不直(zhi)接(jie)畫圖(tu)，需(xu)要在晶圓上涂抹一(yi)層液態的光(guang)(guang)刻膠，光(guang)(guang)刻膠干(gan)燥(zao)后形成膠膜，光(guang)(guang)刻機(ji)才開始畫圖(tu)作(zuo)業。

簡單的說光刻膠是用于保護硅片的，光刻機是用來制作芯片的。光刻膠的性能指標要求極高，如感光的性能、抗蝕性、表面的張力等。目前光刻膠在芯片、面板、模擬半(ban)導體、發光(guang)二極管及光(guang)子器(qi)件上都得到了廣泛(fan)應用。