一、靶材是什么材料

靶材是通過磁控濺射、多弧離子鍍或其他類型的鍍膜系統在適當工藝條件下濺射在基板上形成各種功能薄膜的濺射源。簡單說的話，靶材就是高(gao)速荷能(neng)粒(li)子轟擊的(de)目標材料，用于高(gao)能(neng)激光(guang)武器中，不(bu)(bu)同(tong)(tong)功率(lv)密度、不(bu)(bu)同(tong)(tong)輸出(chu)波(bo)形、不(bu)(bu)同(tong)(tong)波(bo)長的(de)激光(guang)與不(bu)(bu)同(tong)(tong)的(de)靶(ba)(ba)材相互作用時(shi)，會產生不(bu)(bu)同(tong)(tong)的(de)殺傷破壞(huai)效應。例如：蒸發磁控(kong)濺射(she)鍍(du)膜(mo)(mo)是加熱蒸發鍍(du)膜(mo)(mo)、鋁(lv)膜(mo)(mo)等(deng)。更換不(bu)(bu)同(tong)(tong)的(de)靶(ba)(ba)材（如鋁(lv)、銅、不(bu)(bu)銹鋼、鈦、鎳靶(ba)(ba)等(deng)），即可得到(dao)不(bu)(bu)同(tong)(tong)的(de)膜(mo)(mo)系（如超硬、耐(nai)磨、防腐的(de)合金膜(mo)(mo)等(deng)）。

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二、靶材的用途

1、用于顯示器上

靶材目(mu)前被普遍應用(yong)于平(ping)面(mian)顯示器(qi)（FPD)上。近年(nian)來，平(ping)面(mian)顯示器(qi)在市場上的(de)(de)(de)應用(yong)率逐年(nian)增高(gao)，同時也帶動了ITO靶材的(de)(de)(de)技術與市場需(xu)求。ITO靶材有兩種(zhong)，一種(zhong)是采(cai)用(yong)銦錫合(he)金靶材，另外一種(zhong)是采(cai)用(yong)納米狀態的(de)(de)(de)氧化銦和氧化錫粉混(hun)合(he)后(hou)燒結。

2、用于微電子領域

靶材(cai)也被應用于半導體產業，相對來說半導體產業對于靶材(cai)濺(jian)射薄膜的(de)品質要求(qiu)(qiu)是(shi)(shi)比較苛刻的(de)。現(xian)在12英寸（300衄(nv)口）的(de)硅晶(jing)(jing)片也被制作出來，但(dan)是(shi)(shi)互連(lian)線的(de)寬度(du)卻在減小。目前(qian)硅片制造商對于靶材(cai)的(de)要求(qiu)(qiu)都(dou)是(shi)(shi)大尺(chi)寸、高(gao)純度(du)、低偏析以及細晶(jing)(jing)粒等，對其(qi)品質要求(qiu)(qiu)比較高(gao)，這就(jiu)要求(qiu)(qiu)靶材(cai)需要具有更好的(de)微觀結(jie)構。

3、用于存儲技術上

存儲技術行業對于靶材的(de)需求量很大，高密度、大容量硬(ying)盤的(de)發展，離不開大量的(de)巨磁阻薄膜(mo)材料，CoF~Cu多層復合(he)膜(mo)是如今應用(yong)比較廣泛(fan)的(de)巨磁阻薄膜(mo)結構。磁光盤需要的(de)TbFeCo合(he)金靶材還在(zai)進(jin)一步發展，用(yong)它制造出(chu)來的(de)磁光盤有著(zhu)使用(yong)壽命長、存儲容量大以(yi)及可反復無接觸擦寫的(de)特點。