一、光刻機是干什么用的

光刻機是用(yong)來制造芯片的(de)。光刻機(ji)又被稱為掩膜(mo)對準曝(pu)光機(ji)，在(zai)芯片生(sheng)產中用(yong)于(yu)光刻工(gong)(gong)藝(yi)，而光刻工(gong)(gong)藝(yi)又是生(sheng)產流程中最關鍵的(de)一步，所以(yi)光刻機(ji)又是芯片生(sheng)產中不可(ke)缺少的(de)設備。

光刻(ke)(ke)機(ji)決定了芯片(pian)(pian)的(de)精(jing)密尺(chi)寸，設(she)計師設(she)計好(hao)芯片(pian)(pian)線路(lu)，再(zai)通過(guo)光刻(ke)(ke)機(ji)將線路(lu)刻(ke)(ke)在芯片(pian)(pian)上，其尺(chi)度通常在微米(mi)級以(yi)上。

光刻機是芯(xin)片(pian)生產(chan)中最昂(ang)貴(gui)也是技術難度最大的設(she)備，因為其決定了一塊芯(xin)片(pian)的整體(ti)框架與功能。

其實生(sheng)產(chan)高精(jing)度芯片(pian)并不難，只(zhi)是(shi)生(sheng)產(chan)速度太慢，而光刻機能快(kuai)速生(sheng)產(chan)高精(jing)度的芯片(pian)，所以很(hen)重要。

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二、光刻機的工作原理

利(li)用(yong)光(guang)刻(ke)(ke)機(ji)發出的光(guang)通過具有圖形的光(guang)罩(zhao)對涂有光(guang)刻(ke)(ke)膠(jiao)的薄(bo)片(pian)(pian)曝光(guang)，光(guang)刻(ke)(ke)膠(jiao)見光(guang)后會發生性質變化，從而使光(guang)罩(zhao)上(shang)得圖形復印到薄(bo)片(pian)(pian)上(shang)，從而使薄(bo)片(pian)(pian)具有電(dian)子(zi)線路圖的作(zuo)用(yong)。這就是光(guang)刻(ke)(ke)的作(zuo)用(yong)，類似照相機(ji)照相。照相機(ji)拍攝的照片(pian)(pian)是印在底片(pian)(pian)上(shang)，而光(guang)刻(ke)(ke)刻(ke)(ke)的不是照片(pian)(pian)，而是電(dian)路圖和其他電(dian)子(zi)元(yuan)件。

簡單點來說，光(guang)刻機就是放大的(de)單反(fan)，光(guang)刻機就是將光(guang)罩(zhao)上的(de)設計好集成(cheng)電(dian)路(lu)圖(tu)(tu)形(xing)通(tong)過(guo)光(guang)線的(de)曝光(guang)印到(dao)光(guang)感材料上，形(xing)成(cheng)圖(tu)(tu)形(xing)。

三、光刻機的性能指標

光刻機的(de)(de)主要(yao)性能指(zhi)標有：支持(chi)基片的(de)(de)尺寸范圍，分(fen)辨(bian)率(lv)(lv)、對準(zhun)精(jing)度、曝光(guang)方式(shi)、光(guang)源波長、光(guang)強(qiang)均(jun)勻性、生產效率(lv)(lv)等。

分辨(bian)率(lv)(lv)是對光刻(ke)(ke)工(gong)藝(yi)加工(gong)可以達(da)到的最細線條精度的一種(zhong)描(miao)述方(fang)式。光刻(ke)(ke)的分辨(bian)率(lv)(lv)受受光源(yuan)衍射(she)的限制(zhi)，所以與光源(yuan)、光刻(ke)(ke)系統、光刻(ke)(ke)膠和工(gong)藝(yi)等各(ge)方(fang)面的限制(zhi)。

對(dui)準精度是在多層曝光時層間圖案的定位精度。

曝光方式(shi)(shi)分(fen)為接(jie)觸接(jie)近式(shi)(shi)、投影式(shi)(shi)和直寫(xie)式(shi)(shi)。

曝(pu)光(guang)(guang)(guang)光(guang)(guang)(guang)源波(bo)長分(fen)(fen)為紫外、深紫外和極紫外區域，光(guang)(guang)(guang)源有汞燈，準分(fen)(fen)子激光(guang)(guang)(guang)器等。