一、濺射靶材是什么

濺射靶材是(shi)安裝在(zai)真空鍍(du)膜(mo)(mo)機上(shang)鍍(du)膜(mo)(mo)用的，可鍍(du)導電膜(mo)(mo)、絕緣膜(mo)(mo)、裝飾(shi)膜(mo)(mo)，超(chao)硬(ying)膜(mo)(mo)、潤滑膜(mo)(mo)、磁性膜(mo)(mo)等功能(neng)薄膜(mo)(mo)。

磁控濺射(she)(she)鍍膜是一種新(xin)型的(de)(de)物理氣相鍍膜方式，就(jiu)是用電子(zi)槍系統把電子(zi)發射(she)(she)并聚焦在被(bei)鍍的(de)(de)材料上，使其(qi)被(bei)濺射(she)(she)出來的(de)(de)原子(zi)遵循動(dong)量轉換(huan)原理以(yi)較高的(de)(de)動(dong)能脫離材料飛向基(ji)片淀積成(cheng)膜。這(zhe)種被(bei)鍍的(de)(de)材料就(jiu)叫濺射(she)(she)靶材。濺射(she)(she)靶材有金(jin)屬，合(he)金(jin)，陶瓷化合(he)物等(deng)。

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二、濺射靶材工作原理

濺(jian)(jian)(jian)射靶材(cai)主要(yao)是(shi)由靶坯、背板(ban)等部(bu)分構成，靶坯屬(shu)于高(gao)速(su)離子束流轟擊的(de)目(mu)標材(cai)料，是(shi)核心部(bu)分，在濺(jian)(jian)(jian)射鍍(du)膜的(de)過程(cheng)中(zhong)，靶坯被離子撞(zhuang)擊后(hou)，表面原子被濺(jian)(jian)(jian)射飛散出來并沉積于基(ji)板(ban)上制成電子薄膜。因為高(gao)純(chun)度(du)金屬(shu)強(qiang)度(du)較低(di)，可(ke)是(shi)濺(jian)(jian)(jian)射靶材(cai)需要(yao)安裝在專用(yong)的(de)機臺(tai)內(nei)完(wan)成濺(jian)(jian)(jian)射過程(cheng)，機臺(tai)內(nei)部(bu)為高(gao)電壓、高(gao)真空環(huan)境，所以(yi)超高(gao)純(chun)金屬(shu)的(de)濺(jian)(jian)(jian)射靶坯需要(yao)與(yu)背板(ban)通過不同的(de)焊接(jie)工(gong)藝進行(xing)接(jie)合(he)，背板(ban)主要(yao)起到了固定濺(jian)(jian)(jian)射靶材(cai)的(de)作用(yong)，以(yi)及良好的(de)導電、導熱性能。

三、濺射靶材的應用

濺射靶材主要(yao)應用(yong)(yong)于電(dian)子(zi)及信息(xi)產(chan)業，如集成電(dian)路、信息(xi)存(cun)儲、液晶顯示屏、激光存(cun)儲器、電(dian)子(zi)控制器件等(deng)；亦可(ke)(ke)應用(yong)(yong)于玻璃(li)鍍膜(mo)領(ling)域；還可(ke)(ke)以(yi)應用(yong)(yong)于耐磨材(cai)料(liao)、高(gao)溫耐蝕、高(gao)檔裝(zhuang)飾用(yong)(yong)品(pin)等(deng)行業。