一、濺射靶材是什么

濺射靶材是安裝在真(zhen)空鍍(du)膜(mo)(mo)機上鍍(du)膜(mo)(mo)用的(de)，可鍍(du)導電膜(mo)(mo)、絕緣(yuan)膜(mo)(mo)、裝飾(shi)膜(mo)(mo)，超(chao)硬膜(mo)(mo)、潤(run)滑膜(mo)(mo)、磁性膜(mo)(mo)等功能薄(bo)膜(mo)(mo)。

磁控濺(jian)(jian)射(she)鍍膜(mo)是(shi)(shi)一種新型的(de)(de)物理氣相鍍膜(mo)方式(shi)，就(jiu)是(shi)(shi)用電(dian)子槍系統把電(dian)子發射(she)并聚(ju)焦在被鍍的(de)(de)材(cai)(cai)料上，使其被濺(jian)(jian)射(she)出來的(de)(de)原(yuan)子遵循動量轉換原(yuan)理以較高的(de)(de)動能脫離材(cai)(cai)料飛向基片淀積成膜(mo)。這種被鍍的(de)(de)材(cai)(cai)料就(jiu)叫濺(jian)(jian)射(she)靶材(cai)(cai)。濺(jian)(jian)射(she)靶材(cai)(cai)有金(jin)屬，合金(jin)，陶瓷化合物等(deng)。

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二、濺射靶材工作原理

濺(jian)射(she)靶(ba)材主(zhu)要(yao)是(shi)由(you)靶(ba)坯(pi)(pi)、背板等部分構成，靶(ba)坯(pi)(pi)屬于(yu)(yu)高速離子(zi)束(shu)流轟擊(ji)的(de)目標(biao)材料，是(shi)核(he)心部分，在(zai)濺(jian)射(she)鍍膜的(de)過(guo)程(cheng)中，靶(ba)坯(pi)(pi)被離子(zi)撞擊(ji)后，表(biao)面(mian)原子(zi)被濺(jian)射(she)飛散出來并沉積于(yu)(yu)基板上(shang)制成電(dian)子(zi)薄膜。因為高純度(du)金屬強度(du)較低，可是(shi)濺(jian)射(she)靶(ba)材需(xu)要(yao)安裝在(zai)專(zhuan)用的(de)機(ji)臺(tai)內完成濺(jian)射(she)過(guo)程(cheng)，機(ji)臺(tai)內部為高電(dian)壓、高真空環境，所以(yi)超高純金屬的(de)濺(jian)射(she)靶(ba)坯(pi)(pi)需(xu)要(yao)與(yu)背板通過(guo)不同的(de)焊接工藝進行接合，背板主(zhu)要(yao)起到(dao)了固(gu)定濺(jian)射(she)靶(ba)材的(de)作(zuo)用，以(yi)及良好的(de)導(dao)電(dian)、導(dao)熱性能。

三、濺射靶材的應用

濺射靶材主(zhu)要應用于(yu)(yu)電子及信息產業，如(ru)集成電路、信息存儲(chu)、液晶顯示屏、激光存儲(chu)器、電子控制器件等(deng)；亦可應用于(yu)(yu)玻璃鍍膜(mo)領域；還可以應用于(yu)(yu)耐磨材料、高(gao)(gao)溫耐蝕、高(gao)(gao)檔裝飾用品等(deng)行業。