一、平面研磨機簡介

平面研磨機是一(yi)種精密研(yan)磨(mo)(mo)拋光設備，被磨(mo)(mo)、拋材料放于平整(zheng)的(de)(de)研(yan)磨(mo)(mo)盤上進行(xing)研(yan)磨(mo)(mo)處理，工件與研(yan)磨(mo)(mo)盤作相對運轉磨(mo)(mo)擦，來達到(dao)研(yan)磨(mo)(mo)拋光目的(de)(de)，廣泛用于LED藍寶石(shi)襯底、光學玻璃晶片(pian)、石(shi)英晶片(pian)、硅(gui)片(pian)、諸片(pian)、模具(ju)、導光板、光扦接頭等各種材料的(de)(de)單面研(yan)磨(mo)(mo)、拋光。

二、平面研磨機研磨的不平整是什么原因

平面(mian)研(yan)磨機研(yan)磨出來的工件(jian)應(ying)該是平整(zheng)的，如果研(yan)磨后工件(jian)出現(xian)凹凸面(mian)，可能原因(yin)有以下幾(ji)點(dian)：

1、研(yan)磨(mo)盤不平(ping)(ping)，研(yan)磨(mo)機對研(yan)磨(mo)平(ping)(ping)板的(de)重要作用是研(yan)磨(mo)平(ping)(ping)板本身的(de)表面幾何形準(zhun)確地傳遞給被研(yan)磨(mo)工(gong)(gong)件，如果研(yan)磨(mo)平(ping)(ping)面不是理想平(ping)(ping)面，那么被研(yan)工(gong)(gong)件的(de)表面也很難得到高精度平(ping)(ping)面。

2、受(shou)到(dao)動(dong)力(li)矩、扭轉力(li)矩及運(yun)動(dong)慣(guan)性力(li)等復雜受(shou)力(li)作用的影響，促成(cheng)了(le)研磨過程中移動(dong)的不(bu)平穩性，造成(cheng)了(le)工件邊(bian)緣受(shou)力(li)重、被磨掉的多，呈(cheng)現凹狀。

3、沒有按照工(gong)件被研表面的大(da)小(xiao)和高度比(bi)例來確(que)定運(yun)動的速度和方向。

4、沒(mei)有放在工件(jian)的中(zhong)間位置而(er)導致工件(jian)強制(zhi)受力(li)或著力(li)不(bu)均。

5、控制環內的(de)工(gong)件之間的(de)間隙過小，工(gong)件表面(mian)的(de)每(mei)個(ge)點在研(yan)磨盤上(shang)的(de)摩擦(ca)軌跡就會疏密不等(deng)，影響(xiang)密封環的(de)平面(mian)度，有時甚(shen)至會使工(gong)件頂起(qi)，造成研(yan)磨表面(mian)偏斜，導致研(yan)磨不平整。

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三、平面研磨機研磨不平整怎么辦

平面(mian)研磨(mo)機出(chu)現研磨(mo)不平整的現象時(shi)，要及時(shi)處理，以免生產的工件不合格，一(yi)般處理方法如下：

1、首先檢查研磨盤平面度，研磨盤平面度是研磨的基準，是得到精密工件平面的保證，平面研磨機的(de)研(yan)磨盤需定期修(xiu)(xiu)整(zheng)(zheng)平面(mian)，修(xiu)(xiu)整(zheng)(zheng)的(de)方法有兩種：一是(shi)采用基準平面(mian)電鍍(du)金剛石修(xiu)(xiu)整(zheng)(zheng)輪(lun)來修(xiu)(xiu)面(mian)，二是(shi)通過修(xiu)(xiu)整(zheng)(zheng)機構(gou)修(xiu)(xiu)面(mian)。

2、如果是(shi)受到動(dong)力(li)矩、扭轉力(li)矩及運動(dong)慣性力(li)等復雜受力(li)作用(yong)的影響造(zao)成的不(bu)平整，則(ze)可(ke)以(yi)采用(yong)凸形表面的研磨平板(ban)來(lai)補償(chang)，不(bu)僅可(ke)以(yi)解決因磨損不(bu)均造(zao)成的質量(liang)問題，也可(ke)以(yi)使研磨平板(ban)壽命得到延(yan)長。

3、如果是(shi)工件(jian)間隙過小引(yin)起(qi)的(de)，則調整(zheng)控制環(huan)內的(de)工件(jian)之間的(de)間隙即可。