一、平面研磨機簡介

平面研磨機是一(yi)種(zhong)精(jing)密研磨(mo)(mo)拋光(guang)設備，被磨(mo)(mo)、拋材料放(fang)于平整的研磨(mo)(mo)盤上進行(xing)研磨(mo)(mo)處理，工件與研磨(mo)(mo)盤作相(xiang)對運轉磨(mo)(mo)擦，來達到研磨(mo)(mo)拋光(guang)目的，廣泛用于LED藍寶石襯底、光(guang)學玻璃晶片、石英晶片、硅片、諸片、模具、導光(guang)板(ban)、光(guang)扦接頭等(deng)各種(zhong)材料的單面(mian)研磨(mo)(mo)、拋光(guang)。

二、平面研磨機研磨的不平整是什么原因

平(ping)面研(yan)磨(mo)機(ji)研(yan)磨(mo)出(chu)(chu)來(lai)的(de)(de)工件應該是(shi)平(ping)整的(de)(de)，如果研(yan)磨(mo)后(hou)工件出(chu)(chu)現凹(ao)凸面，可能原因有以下(xia)幾點(dian)：

1、研(yan)(yan)磨(mo)(mo)盤不平(ping)，研(yan)(yan)磨(mo)(mo)機對研(yan)(yan)磨(mo)(mo)平(ping)板的重要作(zuo)用是(shi)研(yan)(yan)磨(mo)(mo)平(ping)板本身的表面幾何(he)形(xing)準(zhun)確地(di)傳遞給被研(yan)(yan)磨(mo)(mo)工件，如果研(yan)(yan)磨(mo)(mo)平(ping)面不是(shi)理想平(ping)面，那么被研(yan)(yan)工件的表面也(ye)很難得到高精(jing)度平(ping)面。

2、受到(dao)動(dong)力(li)矩(ju)、扭轉力(li)矩(ju)及運動(dong)慣性(xing)力(li)等(deng)復雜受力(li)作用的影響(xiang)，促成了(le)(le)研磨過程中移動(dong)的不平穩性(xing)，造成了(le)(le)工件邊緣受力(li)重、被(bei)磨掉的多，呈現凹狀。

3、沒有按照工件(jian)被(bei)研(yan)表面的大小和高(gao)度比例(li)來(lai)確(que)定(ding)運動的速度和方(fang)向。

4、沒有放在工(gong)件(jian)的中間位(wei)置而導致工(gong)件(jian)強制受力或著力不均(jun)。

5、控制環內的工(gong)(gong)件之(zhi)間的間隙過小，工(gong)(gong)件表面(mian)的每個點在(zai)研(yan)磨盤上的摩擦軌(gui)跡就會疏密(mi)不等，影響密(mi)封環的平面(mian)度，有(you)時甚至會使工(gong)(gong)件頂起，造成研(yan)磨表面(mian)偏斜，導致研(yan)磨不平整。

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三、平面研磨機研磨不平整怎么辦

平面研磨(mo)機出現研磨(mo)不(bu)平整的現象(xiang)時(shi)，要及時(shi)處(chu)理，以免生產(chan)的工件不(bu)合格，一般(ban)處(chu)理方法如下：

1、首先檢查研磨盤平面度，研磨盤平面度是研磨的基準，是得到精密工件平面的保證，平面研磨機的研磨盤需定期修(xiu)整(zheng)(zheng)平面，修(xiu)整(zheng)(zheng)的方法(fa)有兩種：一是采用基準平面電鍍金(jin)剛石修(xiu)整(zheng)(zheng)輪來修(xiu)面，二是通過修(xiu)整(zheng)(zheng)機(ji)構修(xiu)面。

2、如果是受(shou)到動力(li)矩、扭轉力(li)矩及運動慣性力(li)等復雜受(shou)力(li)作用(yong)的影(ying)響造成(cheng)的不(bu)平整，則可(ke)以采用(yong)凸形表(biao)面的研(yan)(yan)磨平板來補償(chang)，不(bu)僅可(ke)以解決因磨損不(bu)均造成(cheng)的質量問題，也(ye)可(ke)以使研(yan)(yan)磨平板壽命得(de)到延長。

3、如果是工件間(jian)隙過小引起的，則調整控(kong)制環內的工件之間(jian)的間(jian)隙即可。