一、硅片清洗設備維修方法有哪些
1、換能器損壞：
分(fen)析：可能(neng)硅(gui)片(pian)清(qing)洗(xi)設備因長(chang)時間處于開機使用狀態，溫度會逐漸上升導(dao)致膠體融化換(huan)能(neng)器脫落或換(huan)能(neng)器陶(tao)瓷部分(fen)斷裂(lie)。
檢(jian)測和(he)解決：用(yong)搖(yao)表測量換(huan)(huan)能器(qi)的(de)絕緣強度(du)，絕緣強度(du)在(zai)200MΩ以(yi)下(xia)已無法使用(yong)，須換(huan)(huan)新的(de)換(huan)(huan)能器(qi)。
換能器(qi)的內(nei)部陶瓷也會由于長(chang)期使用(yong)出(chu)現斷(duan)裂(lie)，使其不能正(zheng)常工作。
2、硅片清洗設備的保險損壞：
在(zai)開機后(hou)如發現無電源(yuan)顯示(shi)，無動作，首(shou)先要(yao)看電源(yuan)座(zuo)內保險是否損壞。
分析：有(you)可(ke)能是(shi)(shi)用戶接地(di)(di)線(xian)與(yu)火線(xian)或(huo)零線(xian)混用，并沒有(you)接地(di)(di)（本機地(di)(di)線(xian)是(shi)(shi)與(yu)機器(qi)外殼(ke)相(xiang)連接），還有(you)可(ke)能是(shi)(shi)硅(gui)片清洗設備短路，元器(qi)件老化出現短路現象，導致保(bao)險損壞。
檢測和解決(jue)：拿(na)出保險觀看(kan)，有無斷裂，用萬(wan)用表通(tong)斷檔測量是否斷開，更換新(xin)器件。
3、硅片清洗設備的功率管損壞：
分析：主(zhu)板上的功(gong)率(lv)管會(hui)因為超聲(sheng)波清(qing)洗機長(chang)時間(jian)不間(jian)斷使用或清(qing)洗液體太少長(chang)時間(jian)使用，使功(gong)率(lv)管出(chu)現(xian)短路(lu)情況。
檢測(ce)和解決(jue)：當功(gong)率(lv)管(guan)在主板上(shang)連(lian)接式，用(yong)萬用(yong)表測(ce)量(liang)功(gong)率(lv)管(guan)兩側(ce)管(guan)腳的阻值，正常情況下(xia)應(ying)在22Ω左右。拿(na)下(xia)功(gong)率(lv)管(guan)后（與主板斷開連(lian)接），測(ce)量(liang)其(qi)各個管(guan)腳間應(ying)是不通的。
二、硅片清洗設備怎么保養
硅片清洗的重要性想必大家是很清楚的，而清洗后硅片表面的各種性能在一定程度上又由清洗設備本身決定，因此，對硅片清洗設(she)備的日常監控和維護(hu)就(jiu)尤為重要(yao)。
1、進行日常(chang)的(de)生產時，首先(xian)需準備(bei)少量(liang)潔凈的(de)硅片(pian)（如10片(pian)），每(mei)天在進行正常(chang)的(de)硅片(pian)清洗前，對該(gai)10個桂片(pian)進行清洗，且(qie)在清洗前后(hou)對該(gai)硅片(pian)進行表面顆粒的(de)檢測(ce)(ce)，然后(hou)對測(ce)(ce)試(shi)結果(guo)進行分析。
如果(guo)(guo)發現清洗(xi)后硅(gui)片(pian)表(biao)面的(de)顆(ke)粒(li)數跟金屬沾污較清洗(xi)前減少或無(wu)明顯變化，則(ze)表(biao)面清洗(xi)設備(bei)工(gong)作正常(chang)，可以進行正常(chang)的(de)硅(gui)片(pian)清洗(xi)；如果(guo)(guo)發現清洗(xi)后硅(gui)片(pian)表(biao)面顆(ke)粒(li)數跟金屬沾污較清洗(xi)前明顯增(zeng)加，則(ze)表(biao)明清洗(xi)機工(gong)作異常(chang)，需進行相應(ying)的(de)維護。
針對此工作也可以根據生產的具體情況對其即進行(xing)SPC控制，即：顆粒(li)去除(chu)數(shu)=清(qing)洗后顆粒(li)數(shu)-清(qing)洗前顆粒(li)數(shu)
2、硅(gui)(gui)片在(zai)清洗過程中，如(ru)發現硅(gui)(gui)片表面顆粒(li)跟金屬沾污(wu)超標，則需進行(xing)如(ru)下處理：
（1）將(jiang)各槽(cao)(cao)中原液排(pai)干，用DI水將(jiang)槽(cao)(cao)子沖洗一次，然后將(jiang)槽(cao)(cao)中水排(pai)盡。
（2）加入(ru)(ru)少(shao)許（lgallon）DI水，然(ran)后(hou)加入(ru)(ru)lgal-lonH2O2，再(zai)加入(ru)(ru)少(shao)許DI水，然(ran)后(hou)加工(gong)入(ru)(ru)lgallonNH4OH，再(zai)加DI水至(zhi)槽(cao)滿。如果(guo)是(shi)工(gong)藝槽(cao)，則讓混(hun)合液循(xun)環2h，否則靜置2h。
（3）將槽(cao)中液排(pai)盡(jin)，用(yong)DI水再(zai)次沖洗槽(cao)子一次，將槽(cao)液排(pai)盡(jin)。
（4）重新對清洗(xi)設備進(jin)行測試。
