一、多弧離子反應鍍膜設備可鍍色彩

1、鍍(du)銀灰色∶用鈦靶材(cai)，真空鍍(du)抽至(zhi)1.5×10-2Pa，充Ar（氬(ya)氣(qi)）至(zhi)1.0×10-1Pa左(zuo)右鍍(du)三分鐘(zhong)左(zuo)右。（產生Ti金(jin)屬層）

2、鍍銀(yin)白色∶用鉻靶材，真(zhen)空度抽至(zhi)1.0×10-2Pa，充Ar（氬氣）至(zhi)1.5×10-1Pa左右鍍三分鐘左右。（產生Cr金屬層）

3、鍍金(jin)色∶用鈦靶(ba)材，真(zhen)空度抽至1.5×10-2Pa，充Ar（氬氣(qi)）至1×10-1Pa鍍60秒—關氬氣(qi)（Ar）—開氮(dan)氣(qi)至2~4×10-1Pa鍍4分鐘(zhong)左右（產(chan)生(sheng)TiN化合物(wu)）

4、鍍古銅色∶用一半鈦靶材，一半鈦鋁(lv)(lv)靶(ba)材，充Ar（氬(ya)氣）至(zhi)1×10Pa-1開(kai)鈦靶(ba)鍍(du)50秒—關Ar（氬(ya)氣）開(kai)氮(dan)氣至(zhi)1×10-1Pa—開(kai)鈦靶(ba)、鈦鋁(lv)(lv)靶(ba)—充乙炔150流量左(zuo)右(you)，氮(dan)氣調至(zhi)3×10-1Pa左(zuo)右(you)，鍍(du)4分鐘（加熱爐體(ti)至(zhi)200°C左(zuo)右(you)）。（產生(sheng)TiCN和TiN化(hua)合物）

5、鍍(du)玫瑰(gui)金(jin)色∶跟古(gu)銅色一(yi)樣操作，只是乙炔(gui)在60流量左(zuo)右，氮(dan)氣調(diao)至2.5×10-1Pa左(zuo)右（氮(dan)氣、乙炔(gui)要(yao)同時加進去反應，乙炔(gui)要(yao)保持不變，真空度多少只調(diao)節氮(dan)氣流量，古(gu)銅跟玫瑰(gui)金(jin)同樣調(diao)節）。（產生TiCN化合物(wu)）

6、鍍五彩色∶用鈦靶材，充Ar（氬氣）至1.0×10-1Pa鍍1分(fen)鐘后，關(guan)氬氣，開N氮氣至2.5×10-1Pa鍍70秒后關(guan)氮氣，開氧(yang)氣O2至4.5×10-1Pa鍍160秒左右，（產(chan)生(sheng)TiO2、Ti2O3等(deng)氧(yang)化物）

7、鍍珠(zhu)光色∶用鈦靶材，充O2（氧氣）在6.5×10-1Pa~7.5×10-1Pa不(bu)變動，鍍40秒(miao)左右即可，注意同時(shi)引弧(hu)，加熱爐體至(zhi)180°C。（產生TiO2、Ti2O3等氧化物）

8、鍍18K金(jin)色(se)∶用鋯靶材(cai)，充(chong)Ar（氬氣）至1.0×10-1Pa鍍30秒(miao)，關氬氣，開氮氣至2~4×10-1Pa左右鍍3~4分鐘即可。（產生ZrN化(hua)合物(wu)）

9、鍍土豪金色∶裝一(yi)半鈦(tai)靶材，一(yi)半錯靶材，充Ar（（氬氣(qi)）1.0×10-1Pa鍍鈦(tai)靶30秒后關氬氣(qi)，開氮氣(qi)至2~4×10-1Pa左(zuo)右，開鈦(tai)靶、鋯靶，鍍4分(fen)鐘左(zuo)右。（產(chan)生TiZrN化合物）

10、鍍(du)透明(ming)七(qi)彩色（AB彩）∶用鈦(tai)靶(ba)材，充O2（氧(yang)(yang)氣）至6.5~7.5×10-1Pa鍍(du)4分(fen)鐘左(zuo)右(you)，加熱爐(lu)戶溫150°C。（產(chan)生(sheng)TiO2、Ti2O3；TiO、等氧(yang)(yang)化物）

11、鍍酒紅色∶用鐵靶材，充(chong)O2（氧氣(qi)）至(zhi)7.5~9.5×10-1Pa鍍4~6分鐘，加熱爐溫150°℃左右，弧焊機電流在150A左右（產生Fe2O3氧化物）。

12、鍍琥(hu)珀色∶用鐵靶材(cai)，充O2（氧氣）至(zhi)7.5~9.5×10-1Pa鍍1.5~2.5分鐘(zhong)，加熱爐溫(wen)150℃左右，弧焊(han)機(ji)電流在(zai)150A左右。（產生Fe2O3氧化物）

13、鍍(du)(du)寶石藍色(se)，用鈦靶材，充(chong)Ar（氬氣）至1.0×10-1Pa鍍(du)(du)60秒后關氯氣，開(kai)氮氣800-900流量，同時開(kai)氧(yang)氣1000-1130流量（真空控制在2.5~3.5×10-1Pa鍍(du)(du)110秒左右）。（產(chan)生TiO2、Ti2O3、TiO、等氧(yang)化物和TiN化合(he)物的混合(he)膜層）

14、鍍(du)紫色∶同十三號工藝，充(chong)氮氣和(he)氧氣的鍍(du)膜時間控(kong)制在(zai)60-70秒左右(you)，真空在(zai)2.5~3.8×10-1Pa左右(you)即可(ke)。

15、鍍鉻(ge)(ge)黑(hei)色∶用鈦Ti和(he)鉻(ge)(ge)靶材，先充入氬氣Ar在1×10-1Pa鍍60秒左(zuo)右，關鈦靶，開鉻(ge)(ge)靶，關小氯氣至80-120流量(liang)再通入CH乙快氣至8~9.0×10-1Pa，鍍300秒左(zuo)右。（產(chan)生(sheng)CrC黑(hei)色膜(mo)層）

16、鍍槍(qiang)黑色∶用鈦靶材(cai)，充入Ar氣在1.0×10-1Pa鍍60秒后，關(guan)小(xiao)氬氣至(zhi)80-120流量，再(zai)通入CH乙炔(gui)氣在8~9×10-1Pa鍍300秒左右(you)。（產生(sheng)TiC化合物膜層）。

該圖片由注冊用戶"天空之城"提供，版權聲明反饋

二、各種靶材對應的PVD鍍膜顏色

選擇靶材種類、材(cai)(cai)質(zhi)和氣(qi)體（氮氣(qi)、氧(yang)氣(qi)、乙炔、甲(jia)烷、等(deng)），確(que)定(ding)靶材(cai)(cai)及氣(qi)體種類，然后調整氣(qi)體比例、用量、濺射(she)功率、濺射(she)時間、基材(cai)(cai)處理溫(wen)度、濺射(she)溫(wen)度、濺射(she)時間等(deng)工藝參數，制備出顏色膜(mo)層，廣泛(fan)應(ying)用于裝飾(shi)性(xing)鍍(du)膜(mo)行業(ye)。

靶材膜層顏色可調的PVD鍍膜方法

1、鍍金(jin)(jin)屬(shu)膜(mo)層(ceng)，將待鍍產品(pin)傳(chuan)入裝(zhuang)有金(jin)(jin)屬(shu)靶材的鍍膜(mo)腔室，開啟泵抽真空及(ji)加熱裝(zhuang)置進行基底加熱，使(shi)得本(ben)底真空達(da)到(dao)1×10-3Pa及(ji)達(da)到(dao)80-150℃工(gong)藝(yi)溫度(du)后(hou)，向腔室通入10-1000sccm的氬氣(qi)，啟動濺射電源，設置濺射功率1-15KW，鍍膜(mo)時(shi)間10-300S，得到(dao)厚度(du)為1-100nm的金(jin)(jin)屬(shu)膜(mo)層(ceng)，金(jin)(jin)屬(shu)膜(mo)層(ceng)為銅（Cu）、銀（Ag）、鋁（Al）、鉻（Cr）等金(jin)(jin)屬(shu)膜(mo)層(ceng)，或鎳銅（NiCu）、鎳鉻（NiCr）等合金(jin)(jin)膜(mo)層(ceng)。

2、鍍低(di)折(zhe)射率膜(mo)(mo)(mo)(mo)層(ceng)，將鍍完金屬膜(mo)(mo)(mo)(mo)層(ceng)的產(chan)品傳入裝有可(ke)形成(cheng)低(di)折(zhe)射率膜(mo)(mo)(mo)(mo)層(ceng)的靶材鍍膜(mo)(mo)(mo)(mo)腔室，加熱達到80-150℃的工藝(yi)溫度(du)，向腔室通入工藝(yi)氣體，設置濺(jian)射功率1-15KW，鍍膜(mo)(mo)(mo)(mo)時間1-300S，得到厚度(du)為1-100nm的低(di)折(zhe)射率膜(mo)(mo)(mo)(mo)層(ceng)，此低(di)折(zhe)射率膜(mo)(mo)(mo)(mo)層(ceng)為氧(yang)化硅(gui)、氮化硅(gui)等膜(mo)(mo)(mo)(mo)層(ceng)。

3、鍍(du)高(gao)(gao)折射(she)(she)率(lv)(lv)(lv)膜(mo)(mo)層，將鍍(du)完低折射(she)(she)率(lv)(lv)(lv)膜(mo)(mo)層的產品傳(chuan)入(ru)裝有可形(xing)成高(gao)(gao)折射(she)(she)率(lv)(lv)(lv)膜(mo)(mo)層的靶材(cai)鍍(du)膜(mo)(mo)腔室，加熱達(da)到(dao)80-150℃的工藝(yi)溫度，向腔室通入(ru)工藝(yi)氣體(ti)，設置(zhi)濺射(she)(she)功率(lv)(lv)(lv)1-15KW，鍍(du)膜(mo)(mo)時(shi)間1-300S，得到(dao)厚度為(wei)1-100nm的高(gao)(gao)折射(she)(she)率(lv)(lv)(lv)膜(mo)(mo)層，所述高(gao)(gao)折射(she)(she)率(lv)(lv)(lv)膜(mo)(mo)層為(wei)氧(yang)(yang)化(hua)鈦、氮化(hua)鈦、氧(yang)(yang)化(hua)鋯、氮化(hua)鋯、氧(yang)(yang)化(hua)鈮(ni)、氮化(hua)鈮(ni)、氧(yang)(yang)化(hua)鋅(xin)、氧(yang)(yang)化(hua)銦(yin)、氧(yang)(yang)化(hua)鋁、氧(yang)(yang)化(hua)鐵(tie)、氧(yang)(yang)化(hua)鉻、氮化(hua)鉻等膜(mo)(mo)層，此(ci)高(gao)(gao)低折射(she)(she)膜(mo)(mo)層的工藝(yi)氣體(ti)為(wei)Ar、N2、O2中的至少一種，其(qi)中Ar氣體(ti)流(liu)量(liang)為(wei)10-1000sccm，N2氣體(ti)流(liu)量(liang)為(wei)10-1000sccm，O2氣體(ti)流(liu)量(liang)為(wei)10-1000sccm。

4、重復步(bu)驟(zou)二和(he)步(bu)驟(zou)三(san)數次(ci)，得到不(bu)同顏(yan)色的膜(mo)層，重復步(bu)驟(zou)二和(he)步(bu)驟(zou)三(san)的次(ci)數為1-100次(ci)。

以下(xia)是PVD真空鍍膜裝(zhuang)飾薄膜常(chang)用材料(liao)及(ji)其常(chang)用氣體制作的各類裝(zhuang)飾顏(yan)色涂層：

鋯(gao)靶+氮(dan)氣：黃綠(lv)金(jin)黃色

鋯靶+甲烷(wan)：深(shen)淺黑色

鋯+氧氣：白色、透(tou)明膜

鋯靶+氮(dan)氣+甲(jia)烷(wan)：金(jin)色、仿玫瑰金(jin)

鉻(ge)靶+甲烷(wan)：深淺黑色(se)

鉻靶+氮氣(qi)：淺(qian)黑色

鉻靶+氮氣+甲烷：銀(yin)灰色

鉻靶+氧氣：黃色(se)、紫色(se)、綠色(se)

鉻靶+氧氣：銀色

不銹鋼靶+氧(yang)氣(qi)：紫色

不銹鋼靶+氮氣：藍(lan)色(se)

不(bu)銹(xiu)鋼(gang)靶+甲(jia)烷(wan)：亮黑色(se)

不銹鋼(gang)靶+甲烷+氮氣：藍黑色

硅+氮氣：黑色

硅靶+氧氣：混濁白、透明膜

硅(gui)靶(ba)+甲烷：黃色、綠色、藍色、黑色（靶(ba)材(cai)純度高(gao)于99%僅能調黑色）

鈦靶+氧(yang)氣：光學膜七彩截色

鈦靶+甲烷：深淺黑色（DLC制備不能達標）

鈦靶+氮氣(qi)：仿金色(se)、黃(huang)銅色(se)、紫(zi)色(se)、紅色(se)

鈦靶+氮氣+甲烷(wan)：仿(fang)玫瑰(gui)金(jin)、黑綠色、復古(gu)黃(huang)、棕(zong)色、紫色

鎢靶+氮氣：棕黃色

鎢靶+甲烷：深淺黑色

鎢靶+氧(yang)氣：紫色(se)、鮮黃色(se)、棕色(se)、藍色(se)