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硅片清洗機工作原理是什么 硅片清洗機操作說明

本文章由注冊用戶 淺嘗不止— 上傳提供 2023-07-20 評論 0
摘要:半導體器件生產中硅片須經嚴格清洗,即使是微量污染也會導致器件失效。清洗的目的在于清除表面污染雜質,包括有機物和無機物。這些雜質有的以原子狀態或離子狀態,有的以薄膜形式或顆粒形式存在于硅片表面。接下來本文將簡單介紹硅片清洗機工作原理是什么以及硅片清洗機操作說明,一起到文中來看看吧!

一、硅片清洗機工作原理是什么

硅(gui)片清(qing)洗(xi)(xi)機是(shi)利用超聲波清(qing)洗(xi)(xi)技術,在(zai)清(qing)洗(xi)(xi)過程中(zhong)超聲波頻(pin)率在(zai)合理(li)的范圍內(nei)往復(fu)掃動(dong),帶(dai)(dai)動(dong)清(qing)洗(xi)(xi)液(ye)形成細微回(hui)流,使(shi)工件污(wu)垢在(zai)被超聲剝離(li)的同時迅速帶(dai)(dai)離(li)工件表面,提高(gao)清(qing)洗(xi)(xi)效(xiao)率。

具體的(de)原理有以下:

1、真空(kong)脫氣,有效去(qu)除液體中氣體,且運用拋動功能(neng),增強超聲對工件表(biao)面油污和(he)污垢的(de)清洗能(neng)力,縮短清洗時間。

2、洗籃(lan)轉(zhuan)動機構,重(zhong)疊不可分拆的(de)(de)零件或形狀復(fu)雜的(de)(de)零件,也可做(zuo)到均勻(yun)完整的(de)(de)清洗。

3、減(jian)(jian)壓(ya)真空系統,能吸出盲孔、縫隙及疊加零件(jian)之間的(de)空氣,使超聲波在減(jian)(jian)壓(ya)的(de)狀態下產生驚人(ren)的(de)清洗效果。

4、真空蒸汽清(qing)洗+真空干(gan)燥系統,利用蒸汽洗凈做養護,完美(mei)實現清(qing)洗效果。

5、蒸(zheng)汽清(qing)洗、干燥及清(qing)洗液加(jia)熱的全過程在減(jian)壓(ya)真(zhen)空(kong)中進(jin)行,更有(you)效地確(que)保了安全性。

6、防(fang)爆配(pei)件及簡潔(jie)加熱系統,進一步提(ti)高安全度。

該圖片由注冊用戶"淺嘗不止—"提供,版權聲明反饋

二、硅片清洗機操作說明

1、欲清洗(xi)工件放入料(liao)框(kuang)(kuang)(kuang)內(nei)(nei)專用(yong)固定(ding)夾內(nei)(nei),由(you)人(ren)工將(jiang)料(liao)框(kuang)(kuang)(kuang)放上(shang)入料(liao)口,等工位機(ji)械手自動將(jiang)料(liao)框(kuang)(kuang)(kuang)送入清洗(xi)機(ji)本體,上(shang)下(xia)提(ti)升機(ji)構依(yi)照PLC指定(ding)的程(cheng)序(xu)將(jiang)料(liao)框(kuang)(kuang)(kuang)搬(ban)送到相應高度位置。

2、完成對工件的清(qing)洗、噴淋(lin)、漂(piao)洗、慢提拉脫水和熱(re)風干(gan)燥后(hou)、送至清(qing)洗機出口(kou),運送到卸料臺出料,等工位機械手(shou)由氣(qi)缸橫向驅動(dong),直(zhi)線(xian)滑(hua)軌導向。

3、上下提升(sheng)由馬(ma)達驅動,直線(xian)導(dao)軸(zhou)導(dao)向(xiang)(xiang),慢提拉(la)提升(sheng)機(ji)構由變頻馬(ma)達驅動,直線(xian)滑塊導(dao)向(xiang)(xiang),上下料由上下提升(sheng)機(ji)構獨(du)立完成(cheng),采用觸摸屏操(cao)作系統,有手動和自動切換(huan)開關及有關操(cao)作按(an)鈕,能對整個運行過程實行控制。

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